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磁性離子印跡光催化劑選擇性去除重金屬離子同時降解四環(huán)素殘留的性能與機理研究

發(fā)布時間:2021-01-30 05:36
  近年來,水環(huán)境問題受到各界的廣泛關(guān)注,其中,四環(huán)素殘留和重金屬離子是本研究重點考察的對象。四環(huán)素在人類生產(chǎn)生活中使用廣泛,但隨著對其的濫用,導致環(huán)境中出現(xiàn)大量四環(huán)素殘留,從而對生態(tài)環(huán)境造成嚴重影響。光催化技術(shù)是公認的綠色環(huán)保技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)對四環(huán)素殘留的高效降解。而水體中多種金屬離子的存在會阻礙各工藝對特定高毒性重金屬離子的選擇性去除效果,離子印跡技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)對目標重金屬離子的選擇性識別。因此光催化技術(shù)和離子印跡技術(shù)的結(jié)合能夠?qū)崿F(xiàn)對目標高毒性重金屬離子的選擇性去除,同時達到對四環(huán)素殘留的高效降解。由于磁性材料能夠被快速分離,提高利用率,因此被用作基體來改善離子印跡光催化劑的循環(huán)再利用性。本論文以磁性半導體材料為基體,并利用離子印跡技術(shù)在其表面包覆離子印跡層,從而制備出一系列磁性離子印跡光催化劑。通過大量實驗對材料光催化降解四環(huán)素、選擇性去除重金屬離子和穩(wěn)定性等進行了系統(tǒng)考察。主要內(nèi)容如下:(1)制備離子印跡Cd2+-CdS/Fe3O4光催化劑(離子印跡CdS/Fe3O4),研究其... 

【文章來源】:江蘇大學江蘇省

【文章頁數(shù)】:92 頁

【學位級別】:碩士

【部分圖文】:

磁性離子印跡光催化劑選擇性去除重金屬離子同時降解四環(huán)素殘留的性能與機理研究


常見的抗生素種類Fig.1.1Commontypesofantibiotics

方法,離子污染,重金屬離子,環(huán)境污染


圖 1.2 常見的有機廢水治理方法Fig. 1.2 Common methods of organic wastewater treatment金屬離子污染及其危害屬離子污染[19, 20]指由重金屬離子或?qū)?yīng)化合物造成的環(huán)境污染屬離子排入或存在于水體中時,就會造成嚴峻的水體重金屬污

去除方法,催化技術(shù)


圖 1.3 常見廢水中重金屬去除方法Fig. 1.3 Common methods for removing heavy metals from waste water催化技術(shù)催化技術(shù)的原理

【參考文獻】:
期刊論文
[1]β-內(nèi)酰胺類抗生素的臨床應(yīng)用[J]. 劉麗華.  中國藥物經(jīng)濟學. 2013(06)
[2]從水俁病事件透視日本汞污染防治管理的嬗變[J]. 孫陽昭,陳揚,劉俐媛,方莉.  環(huán)境保護. 2013(09)
[3]大環(huán)內(nèi)酯類抗生素的分類及在慢性鼻-鼻竇炎中的應(yīng)用[J]. 邵姍,王洪田.  臨床耳鼻咽喉頭頸外科雜志. 2010(17)
[4]喹諾酮類藥物在水產(chǎn)養(yǎng)殖中的應(yīng)用研究概況[J]. 王瑞旋,陳畢生.  南方水產(chǎn). 2007(03)



本文編號:3008346

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