本文選題：金屬材料電沉積 + Co-W合金鍍層�。� 參考：《材料研究學報》2017年10期

【摘要】：利用恒電流直流電沉積方法在Cu基底表面制備了Co-W合金鍍層,當鍍液中WO_4~(2-)濃度≥0.075 mol/L時鍍層為非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。電化學研究表明,非晶態(tài)Co-W合金鍍層在1 mol/L NaOH溶液中表現(xiàn)出良好的電催化析氫活性,過程受Volmer-Heyrovsky路徑控制。W含量約為40.1%(質(zhì)量分數(shù))的Co-W合金鍍層析氫活性最強,其表觀交換電流密度j_0為3.17×10~(-5)A/cm~2;當電位負于-1.464 V(相對于飽和甘汞電極電位)后該Co-W合金鍍層的陰極電流密度超越了商用Pt片。結(jié)合電化學阻抗分析獲知,由于鍍層本征催化活性和比表面積(或電化學活性面積)均得到提升,使得非晶態(tài)Co-W合金鍍層析氫活性獲得提高。
[Abstract]:Co-W alloy coating was prepared on Cu substrate by constant current direct current electrodeposition method. When the concentration of WO _ 4N _ 2 ~ (2) in the bath is more than 0.075 mol/L, the coating is amorphous. Electrochemical study showed that amorphous Co-W alloy coating exhibited good electrocatalytic hydrogen evolution activity in 1 mol/L NaOH solution, and the Co-W alloy with 40.1% (mass fraction) of Co-W alloy, which was controlled by Volmer-Heyrovsky path, had the strongest catalytic hydrogen deposition activity. The apparent exchange current density (j0) is 3.17 脳 10 ~ (-5) A / cm ~ (2). The cathodic current density of the Co-W alloy coating is higher than that of commercial Pt film when the potential is negative to -1.464 V (relative to the saturated calomel electrode potential). Combined with electrochemical impedance analysis, it was found that the catalytic activity and specific surface area (or electrochemical active area) of the amorphous Co-W alloy were improved due to the enhancement of the intrinsic catalytic activity and the specific surface area of the coating.
【作者單位】： 蘇州大學沙鋼鋼鐵學院;
【基金】：國家自然科學基金(51204115) 江蘇省自然科學基金(BK20141193,BK20151221)~~
【分類號】：TG174.44;TQ116.2

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本文編號：1860539