襯底對(duì)微米金剛石薄膜制備及特性的影響
本文選題:微米金剛石 切入點(diǎn):薄膜制備 出處:《電子器件》2017年01期
【摘要】:通過(guò)改變處理襯底表面的方法,制備出不同的微米金剛石薄膜。具體的方法是利用磁控濺射在陶瓷襯底上面鍍上一層厚金屬鈦,對(duì)金屬鈦層進(jìn)行不同的表面處理后,放在微波等離子體化學(xué)氣相沉積腔中制備微米金剛石薄膜。對(duì)不同的薄膜用二極管型結(jié)構(gòu)測(cè)試了它們的場(chǎng)致發(fā)射電子的性能,良好的表面處理能達(dá)到在電場(chǎng)2.1 V/μm下,9.2 m A/cm~2優(yōu)秀的發(fā)射效果。并對(duì)發(fā)射機(jī)理和場(chǎng)發(fā)射特性進(jìn)行了深入的研究。
[Abstract]:Different micron diamond films were prepared by changing the substrate surface treatment.The specific method is to prepare micron diamond films on ceramic substrates by magnetron sputtering, after different surface treatments are carried out, and then deposited in microwave plasma chemical vapor deposition cavities.The properties of the field emission electrons of different thin films were tested with diode structure. The excellent surface treatment can reach the excellent emission effect of 9.2m A/cm~2 at the electric field of 2.1V / 渭 m.The emission mechanism and field emission characteristics are also studied.
【作者單位】: 鄭州師范學(xué)院物理系;鄭州大學(xué)物理工程學(xué)院材料物理教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】:教育部科學(xué)技術(shù)重點(diǎn)項(xiàng)目(205091) 河南省科學(xué)技術(shù)成果項(xiàng)目(教高豫科鑒委字[2015]第569號(hào)) 河南省高等學(xué)校重點(diǎn)科研項(xiàng)目(16A140039)
【分類(lèi)號(hào)】:TQ163;TN873
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,本文編號(hào):1713923
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