新型光電半導(dǎo)體材料的第一性原理計算研究
發(fā)布時間:2021-10-20 04:13
【文章來源】:戰(zhàn)略支援部隊信息工程大學(xué)河南省
【文章頁數(shù)】:133 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
一個掃描周期內(nèi)擺鏡角度變化
根據(jù)相機的設(shè)計指標,在每個定向片的外方差,將其作為 POS 和碼盤觀測值,利用 POS 和碼盤觀測值對應(yīng)的地面點坐標,并與其已知值進行比較,對結(jié)果進行 所示,其誤差分布如圖 2-14、圖 2-15 所示,圖中箭頭所示和方向。表 2-1 POS 及俯位角碼盤觀測值仿真實驗數(shù)據(jù)誤差變量 誤差值POS 線元素XS(m) 0.1YS(m) 0.1ZS(m) 0.1POS 角元素 ( )0.005 ( )0.005 ( )0.008碼盤觀測值 ( )0.006 ( )0.006
圖 2-15 直接定位高程坐標誤差分布圖表 2-2 影像直接定位精度計項目 X(m) Y(m) Z(m)均殘差 20.687 9.353 2.614大殘差 58.042 13.003 9.495小殘差 0.836 7.8775 0.032方根誤差 22.433 9.392 3.332可見,直接定位計算得到的地面點平面坐標殘差存在明顯的精度與 Y 方向和 Z 方向相比較差的原因是 X 方向為擺角,引入相同的系統(tǒng)誤差時其對定位精度的影響更大。控制點進行空間后方交會)的基礎(chǔ)上,利用無誤差的嚴格成像模型生成 430 個均勻制點進行空間后方交會,求取定向片參數(shù)。求解的定向片、Zs ,姿態(tài)角 、 、 以及擺鏡掃描角 和旋轉(zhuǎn)補償?shù)降亩ㄏ蚱瑓?shù),對實驗(1)中的檢查點進行 DEM 輔助表 2-3 所示,其誤差分布如圖 2-16、圖 2-17 所示。
【參考文獻】:
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本文編號:3446222
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