本文關(guān)鍵詞：聚焦離子束微納加工的濺射刻蝕工藝模型研究

  更多相關(guān)文章： 聚焦離子束刻蝕 連續(xù)元胞自動機 再沉積效應(yīng) 工藝模型

【摘要】：提出基于連續(xù)元胞自動機的聚焦離子束濺射刻蝕工藝模型,該模型可以有效引入實際工藝參數(shù)和掃描策略,建立濺射與再沉積方程,準(zhǔn)確地表達(dá)離子束加工導(dǎo)致的濺射和再沉積效應(yīng),精確地描述這些效應(yīng)導(dǎo)致的表面結(jié)構(gòu)演化過程。在多種工藝因素和掃描策略的條件下,工藝模型的計算結(jié)果中,濺射刻蝕與再沉積效應(yīng)能夠與試驗現(xiàn)象一致。加工截面輪廓的模擬結(jié)果,刻蝕深度隨時間變化相對誤差小于8%,精度高于現(xiàn)有的模型,驗證了模型的有效性。連續(xù)元胞自動機模型不僅具備計算精度高的特點,而且有更好的可視化輸出效果,為聚焦離子束加工微納結(jié)構(gòu)提供工藝參數(shù)優(yōu)化方法。
【作者單位】： 東南大學(xué)機械工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 聚焦離子束刻蝕 連續(xù)元胞自動機 再沉積效應(yīng) 工藝模型
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(51375093)
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 0前言*聚焦離子束技術(shù)(Focused ion beam,FIB)是通過透鏡系統(tǒng)將液態(tài)離子源(Liquid metal ion source,LMIS)發(fā)射的離子聚焦并轟擊于材料表面,實現(xiàn)材料在亞微米和納米尺度進(jìn)行加工的工藝。作為FIB最重要的功能之一,離子濺射刻蝕加工可以簡單直觀高分辨率地加工出曲面與空腔等各

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3 胡學(xué)駿,趙永龍,張江陵;利用高頻濺射刻蝕光刻伺服盤工藝參數(shù)的確定[J];微細(xì)加工技術(shù);1993年03期

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本文編號：966030