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硅時代的半導(dǎo)體革新

發(fā)布時間:2017-09-11 20:31

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【摘要】:然而這類主要是工業(yè)應(yīng)用市場現(xiàn)有的硅器件的替代過程,在專業(yè)領(lǐng)域之外,得到的社會關(guān)注度不高。只能說是一場靜悄悄的技術(shù)革新。一個可能的例外,是高頻氮化鎵器件,可望在未來催生一個廣受關(guān)注的醫(yī)用植入裝置的無線充電市場。
【關(guān)鍵詞】氮化鎵;替代過程;硅器件;禁帶;半導(dǎo)體工業(yè);社會關(guān)注度;寬禁帶半導(dǎo)體;器件技術(shù);代際差別;金屬導(dǎo)體;
【分類號】:TN304
【正文快照】: 、亡年來,以氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)近$者說“寬禁帶半導(dǎo)體”材料器件,吸引了很多政府和產(chǎn)業(yè)界的關(guān)注,在后摩爾定律時期投資界眼中曰趨冷寂的半導(dǎo)體工業(yè)中,成為為數(shù)不多的熱門領(lǐng)域之一。半導(dǎo)體的代際差別進(jìn)步的依據(jù)和意義是什么?為什么要用到寬禁帶材料?作者在這里從一個特

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7 黃萍,薛成山,李秀琴,魏琴琴;管式電爐合成氮化鎵晶粒的研究[J];微納電子技術(shù);2003年11期

8 李忠,魏芹芹,楊利,薛成山;氮化鎵薄膜的研究進(jìn)展[J];微細(xì)加工技術(shù);2003年04期

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10 程文芳;;雷聲公司氮化鎵半導(dǎo)體技術(shù)通過關(guān)鍵測試[J];半導(dǎo)體信息;2007年05期

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2 陳振;劉祥林;王曉暉;陸大成;袁海榮;韓培德;汪度;王占國;;(1102)面藍(lán)寶石襯底上生長氮化鎵研究[A];2000年材料科學(xué)與工程新進(jìn)展(下)——2000年中國材料研討會論文集[C];2000年

3 徐凱宇;唐s,

本文編號:832915


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