本文關(guān)鍵詞：光學(xué)元件改性處理對(duì)激光損傷閾值的影響

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【摘要】：針對(duì)355nm激光作用于熔石英光學(xué)元件后其損傷閾值容易變差的問(wèn)題,提出使用1.7%純HF溶液和0.4%HF與1.2%NH4F混合的BOE溶液對(duì)樣品進(jìn)行處理來(lái)提高它們的激光誘導(dǎo)損傷閾值(LIDT)。在相同的條件下將熔石英光學(xué)元件浸沒(méi)到上述兩種不同的刻蝕溶液中進(jìn)行處理,通過(guò)測(cè)量刻蝕過(guò)程中元件重量變化來(lái)計(jì)算刻蝕速率,利用Zygo輪廓儀測(cè)試元件表面粗糙度,然后對(duì)355nm激光照射下熔石英元件的損傷閾值情況進(jìn)行研究。損傷測(cè)試表明,LIDT與元件的材料去除深度有關(guān)系,用兩種刻蝕液刻蝕去除一定深度后,LIDT均有增加,但是進(jìn)一步去除會(huì)顯著地降低元件的LIDT。在處理過(guò)程中,這兩種刻蝕液的去除速率都很穩(wěn)定,分別為85.9nm/min和58.6nm/min左右。另外,元件表面的粗糙度會(huì)隨著刻蝕時(shí)間的增加而變大。在刻蝕過(guò)程中還通過(guò)納米技術(shù)測(cè)量了熔石英元件表面的硬度及楊氏系數(shù),不過(guò)沒(méi)有證據(jù)表明其與激光誘導(dǎo)損傷有明確的關(guān)系。
【作者單位】： 成都精密光學(xué)工程研究中心;
【關(guān)鍵詞】： 熔石英 光學(xué)元件 激光損傷閾值 化學(xué)改性 刻蝕速率 表面粗糙度 機(jī)械特性
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.51505444) 中國(guó)物理工程研究院科學(xué)技術(shù)發(fā)展基金資助項(xiàng)目(No.2015B0203032);中國(guó)物理工程研究院超精密加工重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室科研基金資助項(xiàng)目(No.K984-15-JCZ)
【分類(lèi)號(hào)】：TN249
【正文快照】： 1引言熔石英光學(xué)元件的抗激光損傷能力在高功率激光系統(tǒng)是一項(xiàng)重要的光學(xué)性能。當(dāng)熔石英受到355nm激光照射,其損傷閾值很容易變差,限制了光學(xué)系統(tǒng)的使用壽命和性能。因此,提高熔石英激光誘導(dǎo)損傷閾值來(lái)增加高紫外能量下光學(xué)系統(tǒng)的使用壽命和性能是成為重要的研究課題[1,2]。緩

【相似文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：828919