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nc-Si:H薄膜的制備及光學(xué)特性研究

發(fā)布時間:2017-09-09 00:02

  本文關(guān)鍵詞:nc-Si:H薄膜的制備及光學(xué)特性研究


  更多相關(guān)文章: PECVD nc-Si:H nc-Si(p):H 結(jié)構(gòu)特征 光學(xué)特性 光學(xué)常數(shù)


【摘要】:采用PECVD設(shè)備,以H2和SiH4按一定比例混合的氣體作為氣體源,在石英襯底上制備本征的nc-Si:H薄膜;另外將在一定的H2稀釋比下的PH3氣體作為摻雜劑,在石英以及單晶硅襯底上制備摻雜的nc-Si(p):H薄膜。本征的nc-Si:H薄膜制備過程中通過改變反應(yīng)氣體中H2的比例;摻雜的nc-Si(p):H薄膜制備過程中通過改變純PH3和SiH4氣體流量的比值(Cp),來分析反應(yīng)氣體濃度的改變對所制備樣品薄膜的微結(jié)構(gòu)特性以及其光學(xué)特性所產(chǎn)生的影響。使用alpha-step200臺階儀、激光拉曼光譜儀、雙光束紫外可見分光光度計、DX-2500型X射線衍射儀(XRD)、傅立葉變換紅外光譜儀(FTIR)等設(shè)備,測試了所制備的本征和摻磷的nc-Si:H薄膜的微結(jié)構(gòu)特征。此外,通過一些方法分析了樣品的光學(xué)特性的變化情況;趎c-Si:H及nc-Si(p):H薄膜的透射光譜,采用一種新的分析手段,通過Matlab軟件根據(jù)薄膜的透過率公式進(jìn)行編程,通過此程序進(jìn)行了數(shù)據(jù)擬合并加以分析,以獲得所制備薄膜的膜厚、折射率,吸收系數(shù)等光學(xué)常數(shù)。以提取所制備樣品的一些光學(xué)常數(shù)。同時,根據(jù)得到的光學(xué)常數(shù)可以獲得樣品的吸收系數(shù)以及折射率的變化情況。此過程中,需要先要確定薄膜厚度的初始值,采用包絡(luò)法,畫出薄膜透射光譜的包絡(luò)線,并提取干涉峰的干涉極值處的數(shù)據(jù)。最終通過擬合圖可以看出,理論計算和實驗測得的兩條曲線擬合的相當(dāng)好,使得此方法計算光學(xué)常數(shù)的可靠性得到了驗證。表明這是確定nc-Si:H薄膜一些光學(xué)常數(shù)的一種有效方法。
【關(guān)鍵詞】:PECVD nc-Si:H nc-Si(p):H 結(jié)構(gòu)特征 光學(xué)特性 光學(xué)常數(shù)
【學(xué)位授予單位】:河北大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TN304.055
【目錄】:
  • 摘要4-5
  • Abstract5-8
  • 第1章 引言8-12
  • 1.1 研究背景及意義9-11
  • 1.2 主要研究內(nèi)容11-12
  • 第2章 nc-Si:H薄膜的制備與表征方法12-18
  • 2.1 樣品制備12-14
  • 2.1.1 實驗儀器12-13
  • 2.1.2 襯底清洗13
  • 2.1.3 制備 nc-Si:H 薄膜13-14
  • 2.2 nc-Si:H薄膜的表征方法14-18
  • 2.2.1 臺階儀14
  • 2.2.2 XRD14-15
  • 2.2.3 Raman光譜儀15-16
  • 2.2.4 原子力顯微鏡(AFM)16
  • 2.2.5 FTIR16
  • 2.2.6 UV-VIS-NIR Spectroscopy16-18
  • 第3章 本征nc-Si:H薄膜的制備、表征與光學(xué)特性研究18-33
  • 3.1 制備18
  • 3.2 結(jié)構(gòu)表征18-24
  • 3.2.1 沉積速率18-19
  • 3.2.2 X射線衍射19-20
  • 3.2.3 Raman散射20-22
  • 3.2.4 AFM測試22
  • 3.2.5 FTIR吸收譜22-24
  • 3.3 光學(xué)特性24-33
  • 3.3.1 透射光譜與反射光譜24-26
  • 3.3.2 包絡(luò)法26-28
  • 3.3.3 數(shù)據(jù)擬合28-30
  • 3.3.4 折射率與吸收系數(shù)30-32
  • 3.3.5 光學(xué)帶隙32-33
  • 第4章 摻磷nc-Si:H薄膜的制備、表征與光學(xué)特性研究33-44
  • 4.1 制備33
  • 4.2 結(jié)構(gòu)表征33-37
  • 4.2.1 沉積速率33-34
  • 4.2.2 Raman散射譜34-36
  • 4.2.3 FITR吸收譜36-37
  • 4.3 光學(xué)特性37-44
  • 4.3.1 透射譜與反射譜37-39
  • 4.3.2 包絡(luò)法39-40
  • 4.3.3 數(shù)據(jù)擬合40-41
  • 4.3.4 折射率與吸收系數(shù)41-44
  • 第5章 結(jié)論44-47
  • 參考文獻(xiàn)47-52
  • 致謝52-53
  • 碩士研究生在讀期間發(fā)表的論文53

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本文編號:817097

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