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硅基超疏水跨尺度微納結構的制備

發(fā)布時間:2017-07-02 14:03

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【摘要】:提出了一種可行的制備超疏水跨尺度微納結構的方法,該方法基于衍射干涉光刻技術,制備出擁有跨尺度的光刻膠結構陣列。建立衍射干涉光刻模型,采用嚴格耦合波分析(RCWA)方法對衍射干涉形成的光強分布進行理論分析;通過衍射干涉光刻技術制備出跨尺度微納光刻膠陣列。最后用ICP-Bosch干法刻蝕工藝,將跨尺度光刻膠結構轉移到硅基底上,制備出高深寬比硅管狀結構,其頂部是跨尺度微納錐形結構,利用接觸角測量儀對制備的樣品表面的浸潤性能進行了測試,測試結果表明該跨尺度微納結構達到超疏水性能。
【作者單位】: 九江學院機械與材料工程學院;
【關鍵詞】衍射干涉 理論分析 跨尺度結構 ICP-Bosch工藝 超疏水性能
【基金】:江西省青年科學基金資助項目(20151BAB216019) 九江學院重點資助項目(2015LGZD04)
【分類號】:TN305.7
【正文快照】: 0引言近年來,超疏水表面潤濕性能引起了國內(nèi)外研究人員的普遍關注。超疏水表面,一般是指其與水的接觸角大于150°,滾動角小于10°。自然界中很多植物葉如荷葉和水稻葉等的表面,水滴落上其表面之后都會馬上滾落,且不留下痕跡,這就是所謂的“荷葉效應”[1-3]。基于荷葉效應制作

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本文編號:510164

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