金剛石薄膜及異質(zhì)結(jié)的生長與性質(zhì)研究
發(fā)布時間:2022-09-29 11:02
金剛石材料因其具有較寬的帶隙、高載流子遷移率以及高擊穿電壓等優(yōu)異的性能,被科學(xué)家譽(yù)為“終極半導(dǎo)體材料”,廣泛地應(yīng)用于高功率器件、輻射探測器及日盲紫外探測器等領(lǐng)域。另一方面,隨著量子調(diào)控技術(shù)的不斷發(fā)展,基于金剛石氮空位色心(Nitrogen-vacancy center,NV center)的固態(tài)單光子源,由于在室溫下具有穩(wěn)定性好、退相干時間長、量子態(tài)可讀取等特性,將其與光學(xué)微腔或其他高品質(zhì)因子的半導(dǎo)體微納結(jié)構(gòu)形成復(fù)合耦合系統(tǒng)后,可以建造更高品質(zhì)的量子密鑰分配系統(tǒng),因此已成為固態(tài)量子信息研究領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。同時,將P型金剛石薄膜與其他n型寬禁帶半導(dǎo)體結(jié)合構(gòu)成異質(zhì)pn結(jié),在高溫及高功率電子器件領(lǐng)域的應(yīng)用也具有較高的研究價值。本論文主要以實(shí)驗合成為主,輔之以基于密度泛函理論的第一性原理計算方法,研究了不同生長參數(shù)對金剛石薄膜外延質(zhì)量的影響、不同濃度的氮?dú)庖约把鯕鈱饎偸疦V色心的調(diào)控規(guī)律、大尺寸ZnO基納米金剛石的制備與表征以及一維納米ZnO/碳納米管(CNT)核殼結(jié)構(gòu)的電學(xué)與光學(xué)性質(zhì)等。研究成果主要包括:1.采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法成功合成出高質(zhì)量的多晶金剛石薄膜。綜合多種材料表征...
【文章頁數(shù)】:144 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
(a)金剛石三維原子結(jié)中
圖1.2兩種終端金剛石薄膜表面電子結(jié)構(gòu)((a)氫終端金剛石表面:偽)氧終端金剛石表面l}1
圖1.3金剛石與傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料(a)10KV高壓下耐壓厚度;(b)品質(zhì)因素隨頻率變化比較
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]MPCVD法同質(zhì)外延生長單晶金剛石[J]. 嚴(yán)壘,馬志斌,陳林,付秋明,吳超,高攀. 新型炭材料. 2017(01)
[2]Experimental and theoretical study on field emission properties of zinc oxide nanoparticles decorated carbon nanotubes[J]. 李昕,周偉滿,劉衛(wèi)華,王小力. Chinese Physics B. 2015(05)
[3]單晶金剛石制備研究進(jìn)展[J]. 周祥,汪建華,熊禮威,李偉. 硬質(zhì)合金. 2012(03)
[4]量子計算的研究進(jìn)展[J]. 周正威,黃運(yùn)鋒,張永生,郭光燦. 物理學(xué)進(jìn)展. 2005(04)
[5]量子通信與量子計算[J]. 蘇曉琴,郭光燦. 量子電子學(xué)報. 2004(06)
[6]大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜研究進(jìn)展[J]. 呂反修,唐偉忠,李成明,陳廣超,佟玉梅. 紅外技術(shù). 2003(04)
[7]氧氣對MWPCVD制備金剛石膜的影響[J]. 舒興勝,鄔欽崇,梁榮慶. 真空科學(xué)與技術(shù). 2001(04)
[8]金剛石近紅外增透濾光保護(hù)窗口的制備及應(yīng)用[J]. 應(yīng)萱同,沈元華,徐新民. 光學(xué)學(xué)報. 2000(06)
[9]金剛石膜的性質(zhì)、應(yīng)用及國內(nèi)外研究現(xiàn)狀[J]. 顧長志,金曾孫. 功能材料. 1997(03)
[10]微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜[J]. 胡海天,鄔欽崇,盛奕建. 物理. 1996(11)
博士論文
[1]CVD金剛石膜的高溫氧化及其浸潤性質(zhì)研究[D]. 裴曉強(qiáng).吉林大學(xué) 2015
[2]MPCVD法制備光學(xué)級多晶金剛石膜及同質(zhì)外延金剛石單晶[D]. 李博.吉林大學(xué) 2008
[3]光學(xué)級金剛石厚膜應(yīng)用于紅外窗口的關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 陳榮發(fā).南京航空航天大學(xué) 2008
碩士論文
[1]基于金剛石NV色心的量子信息處理[D]. 齊小寧.北京郵電大學(xué) 2017
[2]AlxGa1-xAs陰極材料光電特性的第一性原理研究[D]. 沈洋.中國計量大學(xué) 2016
[3]CVD同質(zhì)外延單晶金剛石的研究[D]. 吳超.武漢工程大學(xué) 2016
[4]甲烷濃度對金剛石單晶生長的影響和金剛石刻蝕坑的研究[D]. 吳冰欣.吉林大學(xué) 2015
[5]二氧化碳對MPCVD法制備金剛石單晶影響的研究[D]. 張晴.吉林大學(xué) 2010
本文編號:3682474
【文章頁數(shù)】:144 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
(a)金剛石三維原子結(jié)中
圖1.2兩種終端金剛石薄膜表面電子結(jié)構(gòu)((a)氫終端金剛石表面:偽)氧終端金剛石表面l}1
圖1.3金剛石與傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料(a)10KV高壓下耐壓厚度;(b)品質(zhì)因素隨頻率變化比較
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]MPCVD法同質(zhì)外延生長單晶金剛石[J]. 嚴(yán)壘,馬志斌,陳林,付秋明,吳超,高攀. 新型炭材料. 2017(01)
[2]Experimental and theoretical study on field emission properties of zinc oxide nanoparticles decorated carbon nanotubes[J]. 李昕,周偉滿,劉衛(wèi)華,王小力. Chinese Physics B. 2015(05)
[3]單晶金剛石制備研究進(jìn)展[J]. 周祥,汪建華,熊禮威,李偉. 硬質(zhì)合金. 2012(03)
[4]量子計算的研究進(jìn)展[J]. 周正威,黃運(yùn)鋒,張永生,郭光燦. 物理學(xué)進(jìn)展. 2005(04)
[5]量子通信與量子計算[J]. 蘇曉琴,郭光燦. 量子電子學(xué)報. 2004(06)
[6]大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜研究進(jìn)展[J]. 呂反修,唐偉忠,李成明,陳廣超,佟玉梅. 紅外技術(shù). 2003(04)
[7]氧氣對MWPCVD制備金剛石膜的影響[J]. 舒興勝,鄔欽崇,梁榮慶. 真空科學(xué)與技術(shù). 2001(04)
[8]金剛石近紅外增透濾光保護(hù)窗口的制備及應(yīng)用[J]. 應(yīng)萱同,沈元華,徐新民. 光學(xué)學(xué)報. 2000(06)
[9]金剛石膜的性質(zhì)、應(yīng)用及國內(nèi)外研究現(xiàn)狀[J]. 顧長志,金曾孫. 功能材料. 1997(03)
[10]微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜[J]. 胡海天,鄔欽崇,盛奕建. 物理. 1996(11)
博士論文
[1]CVD金剛石膜的高溫氧化及其浸潤性質(zhì)研究[D]. 裴曉強(qiáng).吉林大學(xué) 2015
[2]MPCVD法制備光學(xué)級多晶金剛石膜及同質(zhì)外延金剛石單晶[D]. 李博.吉林大學(xué) 2008
[3]光學(xué)級金剛石厚膜應(yīng)用于紅外窗口的關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 陳榮發(fā).南京航空航天大學(xué) 2008
碩士論文
[1]基于金剛石NV色心的量子信息處理[D]. 齊小寧.北京郵電大學(xué) 2017
[2]AlxGa1-xAs陰極材料光電特性的第一性原理研究[D]. 沈洋.中國計量大學(xué) 2016
[3]CVD同質(zhì)外延單晶金剛石的研究[D]. 吳超.武漢工程大學(xué) 2016
[4]甲烷濃度對金剛石單晶生長的影響和金剛石刻蝕坑的研究[D]. 吳冰欣.吉林大學(xué) 2015
[5]二氧化碳對MPCVD法制備金剛石單晶影響的研究[D]. 張晴.吉林大學(xué) 2010
本文編號:3682474
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