基于憶阻器的異或門設計與應用
發(fā)布時間:2021-08-07 05:21
隨著計算機技術的飛速發(fā)展,邏輯電路在很多領域都發(fā)揮著重要的作用。在集成電路中,尤其是摩爾定律即將失效,為了有效的延續(xù)摩爾定律,電子電路對這些電路的性能提出了更高的要求。憶阻器的出現(xiàn),為解決這些問題提供了契機。1971年美國華裔科學家蔡少棠教授首次提出憶阻器的概念。2008年惠普實驗室的科學家研制出憶阻器物理實物,由此證實了憶阻器的物理存在。憶阻器是一種新生的納米級非線性的元件,與電阻、電容和電感并稱為四種基本無源元件。其以納米性、非線性、低功耗、非易失性等特點在基礎電路設計、集成電路設計、非易失性存儲器設計和生物神經(jīng)突觸等方面得到了廣泛的運用。本文簡述了憶阻器的發(fā)展,介紹了憶阻器的惠普實驗室模型和工作原理,分析了其相關特性和相關文獻的研究現(xiàn)狀,指出現(xiàn)有文獻中憶阻器在邏輯電路中運用遇到的問題,并針對這些問題做了以下工作:提出基于憶阻器的異或門。僅僅用憶阻器暫時無法實現(xiàn)異或門,而憶阻器的結(jié)構(gòu)和CMOS工藝具有很強的兼容性,同時CMOS反相器的特性在邏輯電路中的特殊作用,因此提出了一種混合CMOS憶阻器的邏輯門電路方案。混合CMOS憶阻器的邏輯門電路無需時序操作,在摩爾定律的延續(xù)、計算機的運...
【文章來源】:合肥工業(yè)大學安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:69 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1四種基本元件之間的關系圖??Fig?2.1?The?relationship?between?the?four?basic?components?diagram??
電流(電壓)方向的不同,摻雜區(qū)擴張或縮小,即摻雜區(qū)和非摻雜區(qū)的長(厚)??度發(fā)生變化,但是因為兩個區(qū)域的電導率不同,使得憶阻器的電阻值發(fā)生變化[18],??如圖2.2所示。??r<?D?-?,??I?i???-???-W-???I?{?I??■?|?■??〇——?Doped?Undoped??〇??^?Ti〇2??Undoped??_|?|_?[二〉-VW ̄??Doped??『r-}?^?-A^V-???——VW'-?J一AAA——???<Kc〇Jw/(D?<R〇fyrxv/D??圖2.?2?HP實驗室憶阻器模型??Fig?2.2?HP?laboratory?memristor?model??上圖所示,設薄膜長(厚)度為D,摻雜區(qū)的長(厚)度為w,當摻雜區(qū)占據(jù)??8??
為低阻態(tài),可認為阻值為0。這是下文憶阻器表示邏輯狀態(tài)“0”和“1”的理??論基礎。??圖2.3所示是HP實驗室給出的憶阻器伏安特性曲線。其中外加偏置電壓為正??弦電壓信號:藍色曲線的是電壓,綠色曲線的是由此偏置電壓產(chǎn)??生的電流,紅色曲線為摻雜區(qū)長(厚)度與總長(厚)度比。憶阻器最大阻值與??最小阻值比:R〇FF/R〇N=160。圖中我們可以明顯的觀察以下幾個特點:??1.
【參考文獻】:
期刊論文
[1]第四種無源電子元件憶阻器的研究及應用進展[J]. 蔡坤鵬,王睿,周濟. 電子元件與材料. 2010(04)
博士論文
[1]基于憶阻器的圖像處理技術研究[D]. 周靜.國防科學技術大學 2014
碩士論文
[1]基于憶阻的非易失性存儲方法的研究[D]. 陳敏.華中科技大學 2015
[2]納米結(jié)構(gòu)憶阻器制造技術研究[D]. 王天琦.黑龍江大學 2010
[3]憶阻器電路特性與應用研究[D]. 田曉波.國防科學技術大學 2009
本文編號:3327164
【文章來源】:合肥工業(yè)大學安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:69 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1四種基本元件之間的關系圖??Fig?2.1?The?relationship?between?the?four?basic?components?diagram??
電流(電壓)方向的不同,摻雜區(qū)擴張或縮小,即摻雜區(qū)和非摻雜區(qū)的長(厚)??度發(fā)生變化,但是因為兩個區(qū)域的電導率不同,使得憶阻器的電阻值發(fā)生變化[18],??如圖2.2所示。??r<?D?-?,??I?i???-???-W-???I?{?I??■?|?■??〇——?Doped?Undoped??〇??^?Ti〇2??Undoped??_|?|_?[二〉-VW ̄??Doped??『r-}?^?-A^V-???——VW'-?J一AAA——???<Kc〇Jw/(D?<R〇fyrxv/D??圖2.?2?HP實驗室憶阻器模型??Fig?2.2?HP?laboratory?memristor?model??上圖所示,設薄膜長(厚)度為D,摻雜區(qū)的長(厚)度為w,當摻雜區(qū)占據(jù)??8??
為低阻態(tài),可認為阻值為0。這是下文憶阻器表示邏輯狀態(tài)“0”和“1”的理??論基礎。??圖2.3所示是HP實驗室給出的憶阻器伏安特性曲線。其中外加偏置電壓為正??弦電壓信號:藍色曲線的是電壓,綠色曲線的是由此偏置電壓產(chǎn)??生的電流,紅色曲線為摻雜區(qū)長(厚)度與總長(厚)度比。憶阻器最大阻值與??最小阻值比:R〇FF/R〇N=160。圖中我們可以明顯的觀察以下幾個特點:??1.
【參考文獻】:
期刊論文
[1]第四種無源電子元件憶阻器的研究及應用進展[J]. 蔡坤鵬,王睿,周濟. 電子元件與材料. 2010(04)
博士論文
[1]基于憶阻器的圖像處理技術研究[D]. 周靜.國防科學技術大學 2014
碩士論文
[1]基于憶阻的非易失性存儲方法的研究[D]. 陳敏.華中科技大學 2015
[2]納米結(jié)構(gòu)憶阻器制造技術研究[D]. 王天琦.黑龍江大學 2010
[3]憶阻器電路特性與應用研究[D]. 田曉波.國防科學技術大學 2009
本文編號:3327164
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