面向相位襯度成像應用的CNTs X射線源研究
發(fā)布時間:2017-04-12 19:07
本文關鍵詞:面向相位襯度成像應用的CNTs X射線源研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:X射線相位襯度成像可以對輕元素物質(zhì)進行成像,彌補了傳統(tǒng)吸收襯度成像無法對其進行成像的不足,因此成為醫(yī)療影像學領域研究的熱點。但是,目前X射線相位襯度成像要應用于臨床醫(yī)學仍然面臨著較多的問題,其中突出的是很難獲得相干好能量高的光源。近年來X射線相位襯度成像研究中使用的光源大多為同步輻射光源,這種光源體積大、功率高,無法應用于臨床醫(yī)學。因此,本文利用冷陰極X射線管體積小、啟動快且微焦點X射線具有相干性的特點,研究面向相位襯度成像應用的CNTs冷陰極X射線光源。在前期相關研究的基礎之上,本文針對相位襯度成像的要求,主要從冷陰極X射線管發(fā)射性能和焦點尺寸兩方面進行了討論研究;并對X射線成像進行了實驗研究。本文采用絲網(wǎng)印刷法制備CNTs冷陰極,并重點研究了在CNTs與不銹鋼基底之間的中間層中引入了碳纖維后對陰極發(fā)射電流的影響。實驗發(fā)現(xiàn)加入碳纖維后,在外加電壓為1.6KV時,直徑為1mm的CNTs發(fā)射電流從0.1mA增加到0.3mA。在沒有外加冷卻條件下連續(xù)30min直流測試,電流可以穩(wěn)定保持在0.3mA不變。實驗結(jié)果表明,在絲印過程中引入的銀和少量碳纖維中間層,可成為發(fā)射材料和金屬基底間的過渡層,不僅能增強CNTs在基底上的附著力,降低CNTs與基底之間的界面接觸電阻,還能提供新的發(fā)射點,從而能改善陰極發(fā)射電流和電流穩(wěn)定性。為了改善柵陰極電場的均勻性,降低柵網(wǎng)截獲對CNTs冷陰極X射線管電流的影響,本文從以下兩個途徑對柵網(wǎng)進行了改進研究:一是將覆有納米碳膜的銅網(wǎng)代替不銹鋼柵網(wǎng)后,CNTs發(fā)射電流增加,開啟電壓降低?梢哉J為導電碳膜改善了發(fā)射場的均勻性,從而增加有效發(fā)射面積和發(fā)射電流,同時具有一定能量的電子可以穿過3nm左右厚度的碳膜,最終到達陽極上的電子增多。二是在不銹鋼柵網(wǎng)上蒸鍍MgO薄膜,實驗結(jié)果證明柵極表面的MgO膜在陰極電子的激發(fā)下可以發(fā)射出二次電子,使柵網(wǎng)表面積累一定數(shù)量的正電荷,從而提高了陰極與柵極之間的電場,此時陰極的電子更容易逸出,陰極的發(fā)射電流增大。針對微焦點CNTsX射線源應用,本文還開展了電子束聚焦系統(tǒng)研究,設計了帶有聚焦結(jié)構的柵網(wǎng)并對其結(jié)構參數(shù)進行了模擬計算。參照CNTs冷陰極X射線管測試條件,固定陰極電壓為0KV,柵極電壓為2KV,陽極電壓為35KV,陰極直徑為1mm時,模擬計算了不同尺寸、不同形狀的聚焦柵極和陽極結(jié)構對電子束聚焦性能的影響,并優(yōu)化了結(jié)構參數(shù)。在優(yōu)化條件下模擬計算得到的電子束焦點半徑為50μm,此時柵網(wǎng)電子透過率為50%左右。最后本文進行X射線成像測試研究。采用設計加工的CNTs X射線管能夠?qū)崿F(xiàn)靜態(tài)金屬片和動態(tài)小白鼠的吸收襯度成像,此時CNTs陰極連續(xù)提供大于100uA的直流電流即可以實現(xiàn)清晰成像,但由于沒有加入聚焦極結(jié)構,無法拍攝出對于輕元素的小白鼠毛發(fā)和內(nèi)臟結(jié)構。采用場發(fā)射掃描電鏡中的發(fā)射電流為120uA的電子束作為X射線源對直徑為0.4mm的塑料細繩進行成像測試表明,在焦點尺寸小于250um時即可以清晰的看出塑料細繩的圖像,這為本文仿真設計的聚焦結(jié)構用于相位襯度成像的應用提供了實驗依據(jù)。
【關鍵詞】:相位襯度成像 X射線管 冷陰極電子源 聚焦結(jié)構
【學位授予單位】:東南大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:TN14
【目錄】:
- 摘要5-7
- Abstract7-10
- 第一章 緒論10-18
- 1.1 課題的背景及意義10-12
- 1.2 課題的研究歷史、現(xiàn)狀及存在的問題12-16
- 1.3 課題研究內(nèi)容及意義16-18
- 第二章 用于相位襯度成像的冷陰極X射線源主要改進因素18-26
- 2.1 相位襯度成像原理簡介18-20
- 2.2 場致發(fā)射理論簡介20-22
- 2.3 X射線源的改進因素22-24
- 2.3.1 大電流X射線源23
- 2.3.2 微焦點X射線源23-24
- 2.4 本章小結(jié)24-26
- 第三章 X射線管電子場發(fā)射性能研究26-40
- 3.1 絲網(wǎng)印刷法制備制備CNTs場致發(fā)射陰極及其場致發(fā)射性能測試26-28
- 3.1.1 CNTs冷陰極的制備方法26-27
- 3.1.2 場發(fā)射性能的測試方法27-28
- 3.2 CNTs與基底界面接觸電阻對場發(fā)射性能的影響研究28-32
- 3.2.1 界面接觸電阻對場發(fā)射性能的影響28-29
- 3.2.2 中間層中摻入碳纖維對場發(fā)射性能的影響測試29-32
- 3.3 柵網(wǎng)對陰極場發(fā)射性能的影響研究32-37
- 3.3.1 蒸鍍MgO薄膜的柵網(wǎng)對場發(fā)射性能的影響測試32-34
- 3.3.2 覆蓋碳膜的柵網(wǎng)對場發(fā)射性能的影響測試34-37
- 3.4 本章小結(jié)37-40
- 第四章 X射線管聚焦結(jié)構設計及仿真模擬40-52
- 4.1 冷陰極電子槍結(jié)構設計40-44
- 4.1.1 CTS粒子工作室簡介40
- 4.1.2 聚焦結(jié)構模型的建立40-44
- 4.2 聚焦柵極結(jié)構參數(shù)確定44-50
- 4.2.1 聚焦柵極尺寸對電子束聚焦性能的影響44-47
- 4.2.2 聚焦結(jié)構形狀對電子束聚焦性能的影響47-48
- 4.2.3 陽極對電子束聚焦性能的影響48-50
- 4.3 本章小結(jié)50-52
- 第五章 X射線成像實驗52-58
- 5.1 CNTs冷陰極X射線管成像實驗52-54
- 5.1.1. CNTs冷陰極X射線管成像實驗系統(tǒng)52-53
- 5.1.2. CNTs冷陰極X射線管成像實驗53-54
- 5.2 微焦點X射線成像實驗54-56
- 5.3 本章小結(jié)56-58
- 第六章 總結(jié)58-60
- 參考文獻60-64
- 致謝64-66
- 作者簡介66
【相似文獻】
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1 李媛;面向相位襯度成像應用的CNTs X射線源研究[D];東南大學;2016年
本文關鍵詞:面向相位襯度成像應用的CNTs X射線源研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
,本文編號:301933
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