【摘要】：隨著新一輪國際柔性印刷電子技術的發(fā)展,電路線寬要求越來越細,對印刷電子材料及應用技術提出了更高的要求。其關鍵是如何在更大幅面的柔性基板上,以更低的成本實現(xiàn)特征尺寸更小的柔性電子器件。隨著器件尺寸進一步縮小,要求交聯(lián)導電網(wǎng)絡的線寬達納米量級。因此電路線寬特征尺寸在亞微米、甚至納米級的柔性導電電路的研制成為必然。本論文結(jié)合納米壓印技術和低維納米材料填充技術,制作圖形化超微細柔性透明導電電路。首先利用課題組激光圖形化設備i Grapher,制作圖形化柔性透明基底。并采用低溫等離子體表面處理技術,改變?nèi)嵝酝该骰腢V膠表面特性。然后采用納米涂布及刮涂技術,使低維納米材料填充至網(wǎng)絡溝槽中,獲得微細金屬網(wǎng)格型透明導電薄膜。并對不同深寬比網(wǎng)絡溝槽的填充特性進行了實驗研究。另外,在刮涂填充技術的基礎上,提出利用附加電場實現(xiàn)低維納米材料的可控性填充。實驗表明,電場驅(qū)動填充可明顯改善低維納米材料填充的方向選擇性,使得任意取向的溝槽結(jié)構(gòu)均獲得均勻填充,從而獲得導電性較高的超微細透明導電電路。本論文對超微細柔性透明導電電路的制作方法進行研究,系統(tǒng)闡述了制作工藝流程,并提出利用電場驅(qū)動填充網(wǎng)絡溝槽。為更高要求的柔性印刷電子的研制提供了技術工藝基礎。
【學位授予單位】：蘇州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2015
【分類號】：TN405
【圖文】：

1:1另外，在進行多次刮涂實驗時，還要注意刮涂的方向性

Eun線寬菱形槽型

一次填充即取得了較為理想的效果。1μm寬的溝槽內(nèi)部Ag顆粒均勻且連續(xù)，而且從圖4-8-1可看出，填充效果不受網(wǎng)絡溝槽取向的影響，在相互垂直的兩個方向上填充效果未有明顯區(qū)別。說明采用電場驅(qū)動方式不僅可以實現(xiàn)Ag顆粒的有效填充，同時還可以避免由刮涂方向引起的方向選擇性，那么我們就可以利用該方式進行任意取向型（網(wǎng)絡溝槽以任意方式聯(lián)通，不僅限于垂直和六角結(jié)構(gòu)）透明導電膜的制作。實物圖如圖4-9所示，表現(xiàn)出較好的透過率，下面對于制得的透明導電膜我們進行進一步的分析與測量。

【參考文獻】

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1 李欣;邵金友;田洪淼;劉紅忠;丁玉成;;電場誘導微結(jié)構(gòu)圖形化形成機理及常溫制備工藝[J];納米技術與精密工程;2010年06期

本文編號：2756376