少模垂直腔面發(fā)射激光器及優(yōu)化臺面排布的面發(fā)射激光陣列的研究
【學(xué)位授予單位】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN248
【圖文】:
及深紫外 VCSEL 器件也早已開始被廣泛研究[6, 7],其成果L 簡介SEL 的基本結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體激光器結(jié)構(gòu)最大的特點是諧振腔兩端的反射鏡以由半導(dǎo)體材料外延生長構(gòu)成,激光的出射方向垂直于外延本的面發(fā)射半導(dǎo)體激光器結(jié)構(gòu)包括高反射率(>99%)的上下istributed Bragg reflector, DBR)、量子阱有源區(qū)和金屬電極于 n 型摻雜的 DBR 和 p 型摻雜的 DBR 之間。DBR 反射低折射率材料交替生長而成,每層材料的光學(xué)厚度為激光的光學(xué)厚度為 1/2 激光波長的整數(shù)倍,以滿足諧振條件。
(a) (b)圖 1. 2 (a)頂發(fā)射 VCSEL 與(b)底發(fā)射 VCSEL 的三維結(jié)構(gòu)圖Figure 1. 2 Schematical structure of (a)top-emitting VCSEL and(b)bottom emitting VCSEL1.1.2 VCSEL 的優(yōu)點與基本特性面發(fā)射半導(dǎo)體激光器具有如下的優(yōu)點[1]:(1)低閾值電流和小工作電流:采用質(zhì)子注入或者濕法側(cè)氧化技術(shù)可以將光場和電場限制在線度為微米量級的腔體積內(nèi),所以面發(fā)射半導(dǎo)體激光器的閾值電流可以低至 μA 量級,比普通的邊發(fā)射半導(dǎo)體激光器低三個數(shù)量級。(2)穩(wěn)定的單縱模工作:普通 EEL 的諧振腔長度相對激光波長來說比較長,所以根據(jù)駐波條件,EEL 為多縱模工作,而面發(fā)射半導(dǎo)體激光器的諧振腔光學(xué)厚度可與激光波長接近,縱模間距能夠保證穩(wěn)定單縱模工作[4, 9, 10]。
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本文編號:2740673
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