金屬氧化物薄膜晶體管緊湊模型及參數(shù)提取的研究
【圖文】:
(a)非晶硅薄膜(b)a-IGZO薄膜的載流子傳輸路徑[7]
組分比例的 a-IGZO 的霍爾遷移率(cm2/Vs)與載流子濃度(括號內(nèi),單位鋅是由 In2O3、Ga2O3和 ZnO 三種組分構(gòu)成,各個組分的性n2O3中的銦離子形成的 5s 軌道是電子傳輸?shù)闹饕窂,,而且電子傳輸軌道的重疊[23]。5s 軌道之間相互交疊共享,增大了的高速傳輸。Ga2O3中的 Ga3+具有很強的電負性,能夠抑制子濃度[24]。因此,Ga 元素的摻入可以提高薄膜的穩(wěn)定性[2 薄膜的載流子濃度和遷移率減少的越多。ZnO 中的鋅離子形a-IGZO 達到穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。同時,Zn 離子還有減少導(dǎo)帶底的淺的作用。a-IGZO薄膜的導(dǎo)電機制與薄膜內(nèi)部的電子濃度密切ZO 薄膜的霍爾遷移率和自由載流子濃度隨組分比例 In2O3:從圖中可以看出,In 和 Zn 成分越多,Ga 成分越少,a-IG[27]
【學位授予單位】:暨南大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TN321.5
【相似文獻】
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本文編號:2594768
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