發(fā)布時間：2019-09-17 08:03

【摘要】：集光系統(tǒng)是極紫外光刻機的重要組成部分。集光系統(tǒng)主要包括收集系統(tǒng)和照明系統(tǒng),傳統(tǒng)的極紫外光刻機主要采用的Wolter I型的收集系統(tǒng),由于這種收集系統(tǒng)在中間像點處收集的光是非均勻的,因此照明系統(tǒng)則必須采用特殊的復(fù)眼式科勒照明方式,這是一種光學(xué)積分器形式,這種光學(xué)積分器是由多個微小的反射鏡組成的,制造工序復(fù)雜,成本也非常高。為了大批量生產(chǎn),減小成本,本文將基于自由曲面的方法設(shè)計一種新型的收集系統(tǒng)。首先討論了近幾年的極紫外光刻機及其收集系統(tǒng)的發(fā)展情況;然后以極紫外理論知識和非成像的知識為基礎(chǔ),探討了這種新型的自由曲面收集系統(tǒng)的設(shè)計方法,并根據(jù)收集系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)計出滿足要求的自由曲面;在構(gòu)造自由曲面的過程中,首先在matlab中通過求解計算得到自由曲面的截面的離散點,并在Solid Works中得到收集系統(tǒng)3D模型;最后通過Tracepro軟件仿真模擬驗證所設(shè)計的收集系統(tǒng),通過對照面能量和均勻度的分析,證明這種自由曲面的收集系統(tǒng)的可行性與正確性。為了方便數(shù)控機床加工,就需要得到相應(yīng)的面型公式,于是對所得到的離散點進(jìn)行高次冪線性擬合,最終得到最高次為7次的高次冪多項式的仿真結(jié)構(gòu)符合設(shè)計要求。
【圖文】：

圖 1-1 第一臺光刻機 G-Line將主要介紹的極紫外光刻機(EUVL)，它是以波長為 13.5nm 的曝光光源的微電子光刻技術(shù)[6]，適用于特征尺寸為 22nm 及更細(xì)電路的生產(chǎn)，是業(yè)界認(rèn)為是最有希望的下一代光刻技術(shù)。從 20期開始，歐美及日本等一些國家和地區(qū)的公司， 大學(xué)和實驗

圖 1-2 由 6 個掠入射鏡片組成的收集系統(tǒng)的切面圖國內(nèi)在極紫外光刻機的發(fā)展上還處于初級階段，我國科技人員曾多次向家建議開發(fā)研究極紫外光刻技術(shù)及其相關(guān)的光學(xué)技術(shù)，，但至今，我國還沒從整體上進(jìn)行大規(guī)模極紫外光刻的研究，但國家自然基金委開展了一些相技術(shù)的研究。近年來，長春光機所在投影光學(xué)系統(tǒng)以及離軸照明系統(tǒng)等方
【學(xué)位授予單位】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TN305.7

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前1條

1 陳文樞;光刻機掩模臺系統(tǒng)的動力學(xué)分析[D];華中科技大學(xué);2007年

本文編號：2536739