本文選題：GaN + MOCVD��； 參考：《吉林大學(xué)》2017年碩士論文

【摘要】：目前,以氮化鎵(GaN)為代表的Ⅲ族氮化物半導(dǎo)體在發(fā)光領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。近些年來(lái),藍(lán)光和紅光發(fā)光二極管(LED)的發(fā)展勢(shì)頭迅猛,而同樣作為三基色的綠光LED的發(fā)展卻較為緩慢。這主要是因?yàn)榫G光LED所需要的高質(zhì)量高銦(In)組分InGaN有源層制備困難。目前獲得的高銦組分InGaN有源層常常表現(xiàn)出晶體質(zhì)量差、界面粗糙、輻射復(fù)合效率低等缺點(diǎn)。本論文利用金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(MOCVD),在SiC襯底上制備了晶體質(zhì)量、表面形貌、光學(xué)質(zhì)量都較好的GaN模板,并在最優(yōu)化的模板基礎(chǔ)上制備了 InGaN/GaN量子阱結(jié)構(gòu)的綠光LED,并對(duì)該綠光LED進(jìn)行了相關(guān)表征,具體研究?jī)?nèi)容如下:(1)SiC襯底上GaN模板的制備。我們?cè)赟iC襯底上通過(guò)插入AlN緩沖層的方法制備了 GaN模板。著重研究了 AlN緩沖層厚度對(duì)GaN模板的晶體質(zhì)量、光學(xué)特性和應(yīng)力狀態(tài)的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)AlN緩沖層為120 nm時(shí),GaN模板的各項(xiàng)性能達(dá)到最好。(2)在AlN緩沖層上插入三層梯度鋁鎵氮(AlxGa1-xN)緩沖層,并通過(guò)改變梯度AlxGa1-xN緩沖層的生長(zhǎng)溫度和氨氣(NH3)流量制備出了高質(zhì)量的GaN模板。結(jié)果表明,梯度AlxGa1-xN緩沖層的插入對(duì)GaN模板的晶體質(zhì)量、表面形貌和光學(xué)質(zhì)量具有重要影響:薄膜質(zhì)量顯著提高,GaN模板中壓應(yīng)力的增加,對(duì)于緩解降溫過(guò)程中的張應(yīng)力更為有效。通過(guò)優(yōu)化AlGaN緩沖層的生長(zhǎng)條件,GaN模板的螺位錯(cuò)和刃位錯(cuò)密度分別達(dá)到了 7×107和3.1×108 cm-2,樣品的表面粗糙度為0.381 nm。(3)在上述GaN模板中插入SiNx掩膜以進(jìn)一步優(yōu)化GaN模板,著重研究了不同層數(shù)的SiNx掩膜對(duì)GaN模板的晶體質(zhì)量和應(yīng)力狀態(tài)的影響,實(shí)驗(yàn)表明,多層SiNx掩膜的插入會(huì)進(jìn)一步提高GaN模板的晶體質(zhì)量,并更大程度地降低GaN模板中的張應(yīng)力。(4)我們?cè)诓迦胱顑?yōu)化生長(zhǎng)條件的AlN緩沖層、三層梯度AlxGa1-xN緩沖層、兩層SiNx掩膜的GaN模板基礎(chǔ)上制備了 InGaN/GaN量子阱綠光LED,并通過(guò)光刻、電感耦合等離子體(ICP)刻蝕及蒸鍍等方法制備了具有良好歐姆接觸特性的p型Ni-Au電極。著重研究了不同量子阱對(duì)數(shù)對(duì)LED的材料特性和光電特性的影響。實(shí)驗(yàn)表明:InGaN/GaN量子阱綠光LED界面陡峭、品格完整、厚度均勻;器件的開(kāi)啟電壓約為3.8 V,呈現(xiàn)出較好的整流特性;在光致發(fā)光和電致發(fā)光譜中均可測(cè)試到器件位于綠光波段的發(fā)光峰。另外,隨著量子阱對(duì)數(shù)的減少,量子阱結(jié)構(gòu)中的In組分從24.1%提高到28.8%,且光致發(fā)光和電致發(fā)光譜均發(fā)生了明顯的紅移。
[Abstract]:At present, group 鈪，

本文編號(hào)：1783381