本文選題：光纖光學(xué) + 再生光纖光柵��； 參考：《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》2017年05期

【摘要】：擦除溫度和再生溫度相同時(shí),在800~950℃溫度區(qū)間內(nèi),光纖光柵的擦除時(shí)間和再生完成時(shí)間均隨處理溫度呈指數(shù)衰減。利用再生完成時(shí)間擬合函數(shù),得到紫外載氫標(biāo)準(zhǔn)通信光纖光柵的再生閾值溫度為805℃,并且當(dāng)處理溫度在855~905℃之間時(shí),不同溫度下制得的再生光纖光柵的反射率大小服從高斯分布,定量描述了光纖光柵再生的整個(gè)過程。提出了一種制作高反射率再生光纖光柵的方法,當(dāng)擦除溫度和再生溫度不同時(shí),該方法可將紫外載氫標(biāo)準(zhǔn)通信光纖上的再生光纖光柵的反射率從20%提高到43%。
[Abstract]:When the erasure temperature and regeneration temperature are the same, in the temperature range of 800 ~ 950 鈩，

本文編號(hào)：1733502