本文關(guān)鍵詞：光刻照明系統(tǒng)中復(fù)眼透鏡的設(shè)計(jì)及公差分析　出處：《激光與紅外》2017年07期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：在超大規(guī)模集成電路中,為了實(shí)現(xiàn)NA=1.35,波長193 nm處分辨率達(dá)到45 nm的目標(biāo),需要對(duì)影響光刻照明均勻性的誤差源進(jìn)行詳細(xì)分析最終確定公差范圍。復(fù)眼透鏡是使光束在系統(tǒng)掩膜面上形成矩形均勻照明區(qū)域的關(guān)鍵元件。采用CODE V軟件設(shè)計(jì)了復(fù)眼透鏡對(duì)引起照明不均勻性的因素進(jìn)行分析,結(jié)合復(fù)眼透鏡組的設(shè)計(jì)方案和實(shí)際加工能力,給出X和Y向復(fù)眼曲率公差為±10%,后組曲率公差為±5%,前后組間隔公差為±50μm,位置精度偏心公差為±1μm,裝配精度公差為±3μm。制定公差合理、可行,滿足了浸沒式光刻照明系統(tǒng)高均勻性、高能量利用率的要求。
[Abstract]:In VLSI, the resolution at 193 nm is 45 nm in order to achieve NAA 1.35. It is necessary to analyze in detail the error sources that affect the uniformity of lithographic illumination and finally determine the tolerance range. Compound eye lens is the key element to make the beam form a rectangular uniform illumination area on the system mask surface. CODE is adopted. V software designed the compound eye lens to analyze the factors that caused the illumination inhomogeneity. Combined with the design and practical processing ability of compound lens group, the curvature tolerance of X and Y direction compound eye is 鹵10, the curvature tolerance of posterior group is 鹵5 and the tolerance of anterior and posterior group interval is 鹵50 渭 m. The eccentric tolerance of position accuracy is 鹵1 渭 m, and the tolerance of assembly accuracy is 鹵3 渭 m. The tolerance is reasonable and feasible, which meets the requirements of high uniformity and high energy utilization rate of immersion lithography lighting system.
【作者單位】： 長春理工大學(xué);長春理工大學(xué)光電信息學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(No.91338116;No.11474037)資肋
【分類號(hào)】：TH74;TN405
【正文快照】： 1引言隨著世界光刻技術(shù)邁入45 nm節(jié)點(diǎn)及以下,浸沒式光學(xué)投影曝光光刻技術(shù)已成為集成電路制造的主流技術(shù)[1]。良好的照明均勻性能夠獲得高分辨率,反之,如果照明均勻性較差,那么會(huì)造成各個(gè)視場分辨率存在差異,曝光線條的粗細(xì)不一致,嚴(yán)重影響光刻機(jī)的性能[2-3]。故設(shè)計(jì)了NA達(dá)到1.

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本文編號(hào)：1419605