本文關(guān)鍵詞：基于濕法清洗設(shè)備自動(dòng)供液系統(tǒng)的研究

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【摘要】：濕法清洗設(shè)備是半導(dǎo)體清洗行業(yè)中最普遍的設(shè)備,其電氣控制方式受環(huán)境因素影響有其特殊性和專(zhuān)業(yè)性,清洗設(shè)備中的電氣控制需要配合其清洗的特殊工藝而實(shí)現(xiàn)。同時(shí)清洗工藝過(guò)程具有強(qiáng)腐蝕性,也應(yīng)該考慮電氣設(shè)備的安全耐腐蝕防護(hù)。
【作者單位】： 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二研究所;
【分類(lèi)號(hào)】：TN305.97
【正文快照】： 1概述常見(jiàn)的濕法清洗設(shè)備中用到的化學(xué)試劑大多為:99%的濃硫酸、H3PO4、HF、KOH、HCl等強(qiáng)腐蝕性溶液。以往清洗設(shè)備中所需的化學(xué)溶液均采用人工手動(dòng)添加的方式,人工手動(dòng)添加對(duì)設(shè)備操作人員存在一定的安全隱患,另外受人為因素影響,每次溶液的配置精度均不相同。故目前很多RCA清

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1 錢(qián)善本;;變頻器在清洗設(shè)備中的應(yīng)用[J];機(jī)電工程技術(shù);2013年04期

2 杜飛龍;;多晶硅清洗設(shè)備研究[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;2009年05期

3 吳波;最優(yōu)化工藝[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;1993年03期

4 張雅麗;;模塊化設(shè)計(jì)在半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備中的應(yīng)用[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;2011年07期

5 潘兵峰;;數(shù)控離子帶電清洗設(shè)備的應(yīng)用[J];清洗世界;2007年07期

6 高超群;李全寶;劉茂哲;景玉鵬;;綠色二氧化碳超流體半導(dǎo)體清洗設(shè)備[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;2008年05期

7 嚴(yán)誠(chéng);王益軍;張正君;蘇德坦;叢曉慶;王銳廷;;微通道板清洗設(shè)備研制[J];半導(dǎo)體技術(shù);2008年03期

8 Lewis Liu;Eric Brause;Ismail Kashkoush;Alan Walter;Richard Novak;;用單片清洗設(shè)備進(jìn)行晶圓背面清洗(英文)[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;2006年07期

9 祝福生;;LED濕法清洗設(shè)備CDS設(shè)計(jì)[J];電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備;2013年01期

10 黃曉英;戴素紅;;精密電子清洗劑和清洗設(shè)備的應(yīng)用及發(fā)展趨勢(shì)[J];電子工藝技術(shù);2012年05期

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1 岳祺宇;胡躍;;清洗設(shè)備在電子制造業(yè)中的應(yīng)用[A];2014中國(guó)高端SMT學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2014年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 張瑾;離心清洗設(shè)備控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)[D];西安電子科技大學(xué);2010年

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本文編號(hào)：1247428