InGaAs探測(cè)器的光電性能仿真與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究
發(fā)布時(shí)間:2017-10-20 22:16
本文關(guān)鍵詞:InGaAs探測(cè)器的光電性能仿真與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究
更多相關(guān)文章: 短波紅外 In GaAs 暗電流 TCAD軟件 結(jié)構(gòu)優(yōu)化 電子阻擋層
【摘要】:短波紅外In GaAs探測(cè)器在近室溫下具有良好的性能,在航天遙感領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用價(jià)值。為進(jìn)一步提升短波紅外InGaAs探測(cè)器的性能,本論文重點(diǎn)研究了InAlAs帽層的晶格匹配和延伸波長(zhǎng)探測(cè)器的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)暗電流的影響,并進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,研究了器件暗電流機(jī)制;仿真了吸收層內(nèi)含有電子阻擋層器件的暗電流特性,與無(wú)電子阻擋層結(jié)構(gòu)器件特性進(jìn)行對(duì)比分析,并對(duì)電子阻擋層的位置和周期進(jìn)行了仿真優(yōu)化,獲得了抑制暗電流的優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù)。概述了建立仿真建模的過(guò)程,包括模塊的選擇、結(jié)構(gòu)定義、物理模型設(shè)定、數(shù)值方法選擇、器件特性獲取以及結(jié)果分析等。另外,還有實(shí)時(shí)輸出窗口可以用來(lái)直接查看結(jié)果并調(diào)試模型的參數(shù)等,概述了Atlas軟件仿真的基本流程。采用Atlas器件仿真軟件,研究了與InP襯底晶格匹配的InAlAs帽層器件的暗電流機(jī)制,分析了吸收層厚度和摻雜濃度對(duì)器件暗電流的影響。研究發(fā)現(xiàn),吸收層厚度在0.25μm以內(nèi)時(shí),暗電流會(huì)隨著厚度增大而減小,進(jìn)一步增大厚度時(shí),暗電流的變化較小;吸收層濃度增大,暗電流會(huì)減小,但是濃度增大到一定程度將會(huì)影響到光的吸收效率。通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,分析器件的暗電流機(jī)制,發(fā)現(xiàn)室溫下器件的暗電流主要由擴(kuò)散電流主導(dǎo)。采用標(biāo)準(zhǔn)替代的方法,研究了光柵光譜儀和傅里葉光譜儀校準(zhǔn)器件的響應(yīng)光譜,結(jié)果表明,利用已知的標(biāo)準(zhǔn)器件及其標(biāo)準(zhǔn)光譜,兩者都可以用來(lái)校準(zhǔn)待測(cè)器件的響應(yīng)光譜。傅里葉光譜儀由于具有便攜操作性,信號(hào)較強(qiáng),穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn),一般得到的結(jié)果相對(duì)優(yōu)于光柵光譜儀。采用Atlas器件仿真軟件研究了InAlAs帽層延伸波長(zhǎng)器件的暗電流機(jī)制,分析了吸收層厚度和摻雜濃度對(duì)器件暗電流的影響,同時(shí)研制了基于界面數(shù)字超晶格結(jié)構(gòu)的In GaAs探測(cè)器,并測(cè)試了器件的暗電流和響應(yīng)光譜。器件響應(yīng)光譜與仿真擬合結(jié)果基本一致。在暗電流特性方面,在-0.01V下,300K和200K時(shí)的暗電流大小為6.47×10-9A和1.05×10-12A。并分析了暗電流溫度特性,獲得了激活能,220K-300K擬合的激活能為Ea=0.38eV,表明近室溫下暗電流電流以擴(kuò)散和產(chǎn)生復(fù)合為主,理論仿真結(jié)果一致。在吸收層內(nèi)插入電子阻擋層是抑制器件暗電流的一種方法,它改變了載流子的傳輸,且能夠減小晶格失配帶來(lái)的應(yīng)力并降低缺陷密度。本論文研制了含電子阻擋層的器件D2,測(cè)試其在室溫和低溫下的暗電流,并與無(wú)電子阻擋層器件D1的電流特性進(jìn)行了對(duì)比。結(jié)果表明,D2器件暗電流小于D1器件,在偏壓-0.01V,室溫下D1和D2測(cè)試的的暗電流的特征值是8.27×10-4A/cm2和3.25×10-4A/cm2,與仿真結(jié)果基本一致;溫度降低時(shí),D1和D2器件暗電流均下降,且下降幅度基本一致;這是因?yàn)殡娮幼钃鯇釉趯?dǎo)帶中形成勢(shì)壘,阻礙電子傳輸,而在價(jià)帶中幾乎沒(méi)有勢(shì)壘的影響,所以其作用是延長(zhǎng)了少子的壽命,抑制了復(fù)合電流;谝陨涎芯,本論文采用仿真方法對(duì)器件的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化,分析了超晶格電子阻擋層的位置和周期變化時(shí)對(duì)暗電流的影響,發(fā)現(xiàn)電子勢(shì)壘位置接近吸收層中間且周期厚度為15nm時(shí),可以獲得較小的暗電流。
【關(guān)鍵詞】:短波紅外 In GaAs 暗電流 TCAD軟件 結(jié)構(gòu)優(yōu)化 電子阻擋層
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)科學(xué)院研究生院(上海技術(shù)物理研究所)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TN215
【目錄】:
- 致謝4-5
- 摘要5-7
- ABSTRACT7-12
- 1 引言12-26
- 1.1 短波紅外探測(cè)器的研究背景和意義13-19
- 1.1.1 In Ga As紅外探測(cè)器工作原理13-16
- 1.1.2 In Ga As探測(cè)器研究進(jìn)展16-19
- 1.2 TCAD軟件在半導(dǎo)體器件仿真中的應(yīng)用19-22
- 1.2.1 常見(jiàn)TCAD軟件技術(shù)19
- 1.2.2 Silvaco Atlas軟件介紹及應(yīng)用19-22
- 1.2.2.1 Silvaco軟件發(fā)展19-20
- 1.2.2.2 Silvaco功能介紹20-21
- 1.2.2.3 Silvaco Atlas仿真工具及其流程21-22
- 1.2.2.4 Silvaco軟件仿真應(yīng)用22
- 1.3 In Ga As紅外探測(cè)器仿真研究進(jìn)展22-24
- 1.4 本論文的研究目的和主要內(nèi)容24-26
- 2 In Ga As探測(cè)器仿真建模26-32
- 2.1 引言26
- 2.2 In Ga As探測(cè)器結(jié)構(gòu)的定義26-28
- 2.2.1 網(wǎng)格定義26-27
- 2.2.2 定義區(qū)域和材料27
- 2.2.3 定義電極27
- 2.2.4 描述摻雜27-28
- 2.3 In Ga As探測(cè)器模型的選擇28
- 2.4 數(shù)值方法的選擇28-29
- 2.5 器件特性的獲取與分析29
- 2.6 本章小結(jié)29-32
- 3 晶格匹配器件光電特性模擬與實(shí)驗(yàn)32-44
- 3.1 引言32
- 3.2 晶格匹配器件暗電流特性仿真32-36
- 3.2.1 器件結(jié)構(gòu)與仿真模型32-35
- 3.2.2 電流-電壓特性仿真35-36
- 3.3 單元器件光電性能分析36-39
- 3.3.1 器件研制36-37
- 3.3.2 性能測(cè)試與分析37-39
- 3.4 單元器件暗電流特性擬合39-41
- 3.4.1 理想因子擬合39-40
- 3.4.2 暗電流成分的擬合40-41
- 3.5 本章小結(jié)41-44
- 4 延伸波長(zhǎng)器件性能仿真與優(yōu)化44-66
- 4.1 引言44
- 4.2 暗電流理論44-47
- 4.2.1 臺(tái)面型暗電流模型44-45
- 4.2.2 暗電流成分分析45-47
- 4.3 響應(yīng)光譜校準(zhǔn)47-51
- 4.3.1 替代法原理47-48
- 4.3.2 延伸波長(zhǎng)器件的光譜校準(zhǔn)48-51
- 4.4 暗電流特性仿真51-55
- 4.4.1 界面數(shù)字超晶格的結(jié)構(gòu)和能帶圖51-53
- 4.4.2 吸收層濃度變化的暗電流特性53-54
- 4.4.3 吸收層厚度變化的暗電流特性54-55
- 4.5 延伸波長(zhǎng)器件性能分析與結(jié)構(gòu)優(yōu)化55-64
- 4.5.1 界面數(shù)字超晶格器件研制與分析55-60
- 4.5.1.1 臺(tái)面型器件的研制55-56
- 4.5.1.2 電學(xué)特性測(cè)試56-57
- 4.5.1.3 光譜擬合分析57
- 4.5.1.4 暗電流擬合分析57-60
- 4.5.2 電子阻擋層結(jié)構(gòu)器件研制與分析60-64
- 4.5.2.1 電子阻擋層的器件研制60
- 4.5.2.2 電子阻擋層的器件的特性60-62
- 4.5.2.3 電子阻擋層位置的優(yōu)化62-63
- 4.5.2.4 電子阻擋層周期的優(yōu)化63-64
- 4.6 本章小結(jié)64-66
- 5 總結(jié)與展望66-68
- 5.1 總結(jié)66-67
- 5.2 展望67-68
- 參考文獻(xiàn)68-74
- 作者簡(jiǎn)介及在學(xué)期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與研究成果74
【參考文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條
1 朱耀明;李永富;李雪;唐恒敬;邵秀梅;陳郁;鄧洪海;魏鵬;張永剛;龔海梅;;基于N-on-P結(jié)構(gòu)的背照射延伸波長(zhǎng)640×1線列InGaAs探測(cè)器[J];紅外與毫米波學(xué)報(bào);2012年01期
2 邵秀梅;李淘;鄧洪海;程吉鳳;陳郁;唐恒敬;李雪;;平面型24元InGaAs短波紅外探測(cè)器[J];紅外技術(shù);2011年09期
3 李永富;唐恒敬;李淘;朱耀明;汪洋;殷豪;李天信;繆國(guó)慶;李雪;龔海梅;;InP/In_xGa_(1-x)As異質(zhì)結(jié)構(gòu)中Zn元素的擴(kuò)散機(jī)制[J];紅外與激光工程;2009年06期
,本文編號(hào):1069669
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