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基于數(shù)值模擬的太陽(yáng)能直拉硅單晶熱場(chǎng)降耗研究

發(fā)布時(shí)間:2017-10-20 17:10

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【摘要】:通過(guò)計(jì)算機(jī)數(shù)值模擬仿真技術(shù)分析了TDR-95A-ZJS型22英寸太陽(yáng)能直拉硅單晶熱場(chǎng)結(jié)構(gòu)中影響能耗的主要因素;谀M結(jié)果提出了通過(guò)改變部分熱場(chǎng)結(jié)構(gòu)及保溫氈布局等優(yōu)化措施可有效降低原有熱場(chǎng)功耗。實(shí)際生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)表明,優(yōu)化后的熱場(chǎng)在保證晶體生長(zhǎng)原有質(zhì)量前提下較原有熱場(chǎng)節(jié)能29%。
【作者單位】: 上海大學(xué);
【關(guān)鍵詞】數(shù)值模擬 直拉硅單晶 熱場(chǎng) 功耗
【基金】:上海高校特聘教授(東方學(xué)者)崗位支持計(jì)劃
【分類號(hào)】:TN304.12
【正文快照】: 自進(jìn)入21世紀(jì)以來(lái)隨著半導(dǎo)體和光伏產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展,對(duì)單晶硅片的需求量日益增加。目前直拉法(Czochralski法)是生產(chǎn)單晶硅常用的方法之一,其顯著優(yōu)勢(shì)是可生產(chǎn)出高質(zhì)量、大直徑的半導(dǎo)體級(jí)或太陽(yáng)能級(jí)單晶硅片,主要用來(lái)制作LSI、晶體管、傳感器等半導(dǎo)體器件及硅基高效太陽(yáng)能電池[

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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10 黃千駟;劉洪飛;閻萍;;區(qū)熔摻鎵硅單晶的制備[A];第三屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];1998年

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3 記者 肖國(guó)強(qiáng);浙大研制成功12英寸摻氮硅單晶[N];浙江日?qǐng)?bào);2003年

4 常州華盛天龍機(jī)械有限公司總工程師 李留臣邋常務(wù)副總經(jīng)理 馮鑓;國(guó)產(chǎn)太陽(yáng)能硅單晶生長(zhǎng)設(shè)備喜憂參半[N];中國(guó)電子報(bào);2007年

5 記者 孫明河;我成功研制3英寸碳化硅單晶[N];科技日?qǐng)?bào);2007年

6 記者賈西平;我國(guó)研制成功十八英寸直拉硅單晶[N];人民日?qǐng)?bào);2002年

7 記者馮紹健;我國(guó)第一根18英寸直拉硅單晶問(wèn)世[N];中國(guó)有色金屬報(bào);2002年

8 梁紅兵;我研制成功18英寸直拉硅單晶[N];中國(guó)電子報(bào);2002年

9 ;萬(wàn)向硅峰:硅單晶制備技術(shù)升級(jí)[N];中國(guó)電子報(bào);2011年

10 梁紅兵 王文韜;國(guó)內(nèi)最大區(qū)熔與重?fù)缴楣鑶尉Щ卦诰┙ㄔO(shè)[N];中國(guó)電子報(bào);2001年

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2 張新鵬;雜質(zhì)對(duì)直拉硅單晶中原生缺陷以及熱處理誘生缺陷的影響[D];浙江大學(xué);2013年

3 曾慶凱;直拉硅單晶中微缺陷演變的相場(chǎng)模擬研究[D];山東大學(xué);2012年

4 李東升;集成電路用直拉單晶硅力學(xué)性能[D];浙江大學(xué);2002年

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6 徐進(jìn);直拉硅單晶中氧沉淀及其誘生缺陷的透射電鏡研究[D];浙江大學(xué);2003年

7 崔燦;直拉硅單晶的氧沉淀及內(nèi)吸雜的研究[D];浙江大學(xué);2006年

8 陳加和;大規(guī)模集成電路用同族元素?fù)诫s直拉硅單晶的微缺陷及其缺陷工程[D];浙江大學(xué);2008年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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2 王鎮(zhèn)輝;重?fù)搅字崩鑶尉е腥毕莸难芯縖D];浙江大學(xué);2012年

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5 王彥君;大直徑區(qū)熔硅單晶的研究與制備[D];河北工業(yè)大學(xué);2015年

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7 趙一英;氮和鍺對(duì)直拉硅單晶機(jī)械性能的影響[D];浙江大學(xué);2004年

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10 奚光平;普通和摻氮的重?fù)缴橹崩鑶尉У难醭恋硇袨閇D];浙江大學(xué);2008年



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