本文關鍵詞：用于強激光系統(tǒng)的光柵偏振器

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【摘要】：針對強激光系統(tǒng)中常用的1 053nm激光器進行了偏振光柵結構的優(yōu)化設計。利用嚴格耦合波理論分析了光柵偏振器的衍射特性及消光比,分析顯示偏振光柵周期為600nm,占寬比為0.535~0.55,槽形深度為1 395nm~1 420nm時,可保證其在1 053nm波長下,透射率高于95%,消光比大于1 500�；诜治鼋Y果,利用全息光刻技術制作了高質量光刻膠光柵掩模,并采用傾斜轉動的離子束刻蝕結合反應離子束刻蝕的方法對該光刻膠光柵掩模進行圖形轉移,制作了底部占寬比為0.54,槽形深度為1 400nm的光柵偏振器。實驗測量顯示其透射率為92.9%,消光比達到160。與其他制作光柵偏振器方法相比,采用單光刻膠光柵掩模結合傾斜轉動的離子束刻蝕工藝,不但簡化了制作工藝,而且具有激光損傷閾值高、成本低的優(yōu)點。由于該技術可制作大面積光柵,特別利于在強激光系統(tǒng)中應用。
【作者單位】： 蘇州大學物理與光電·能源學部蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心;蘇州大學江蘇省先進光學制造技術重點實驗室教育部現(xiàn)代光學技術重點實驗室;
【關鍵詞】： 高功率激光系統(tǒng) 光柵偏振器 嚴格耦合波理論 全息光刻 離子束刻蝕
【基金】：國家自然科學基金資助項目(No.60907017) 上海市全固態(tài)激光器與應用技術重點實驗室開放課題資助項目(No.2014ADL02)
【分類號】：TN24;TN25
【正文快照】： 1引言在強激光系統(tǒng)中會大量使用各種偏光器件。例如美國“國家點火裝置”中使用的大口徑偏振片,其和大口徑等離子體電極普克爾斯盒共同構成光隔離器[1]。偏振片通常有雙折射晶體、偏振分光膜和高分子膜3種實現(xiàn)方法[2-4]:自然界存在的雙折射晶體具有偏振分光功能,但天然的雙折

【相似文獻】

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