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復合氧化物薄膜生長機理及物性研究

發(fā)布時間:2017-08-22 12:23

  本文關鍵詞:復合氧化物薄膜生長機理及物性研究


  更多相關文章: 脈沖激光沉積 Cu_2O薄膜 復合薄膜 光的吸收 應變 鐵磁性 微結構


【摘要】:脈沖激光沉積技術(pulsed laser deposition,PLD)是目前實驗室中興起的一種制備薄膜的技術。其主要具有容易獲得期望化學計量比的多組分薄膜,沉積速率快,實驗所需要的周期比較短等優(yōu)點,另外它對襯底的溫度要求較低,且可以通過沉積溫度、激光能量、頻率、氧壓等來調節(jié)工藝參數,從而在適當的條件下獲得我們所需要的薄膜,它還具有兼容性好、清潔容易處理、可以制備多種材料等特點,所以探究PLD不同工藝條件對氧化物薄膜所產生的影響是非常有意義的。在本文中我們主要探討了1.使用不同工藝條件在STO(001)基底上,對銅以其氧化物薄膜實現調控生長。2.在不同基底上實現Sr Mn O3(SMO)和SMO:Ni O復合薄膜的生長在本文中,我們首先研究了PLD生長中襯底的溫度,激光的能量和頻率對銅及其氧化薄膜的影響,包括:晶格結構,表面形貌,電性質,光學性質,化學價態(tài)等等。并通過大量的實驗積累繪制出,Cu,Cu_2O,Cu_2O:Cu隨著不同條件下生長的相圖。實驗結果表明,高的襯底溫度和低的激光能量密度適合單質銅薄膜的生長,而較低的溫度和高的激光能量密度則較易獲得氧化亞銅或者兩者的復合薄膜,電學性質測試表明氧化亞銅保持著半導體性質,且在較高溫度和激光頻率下獲得薄膜樣品表面較為粗糙,通過光學性質測試表明Cu_2O:Cu的復合薄膜相比于純的氧化亞銅薄膜在紫外和紅外波段較具有更高的光吸收率。另外通過X射線光電子衍射(XPS)以及X射線誘導的俄歇電子衍射(XAES)分析,證實了薄膜中只存在Cu~0或者Cu~(1+)離子,其化學價態(tài)可以通過我們的生長工藝條件來調節(jié)。同時我們在不同基底上生長了立方結構的SrMnO_3,以及SrMnO_3:NiO的復合薄膜,在不同基底上生長所需要的氧壓條件不盡相同。實驗結果表明不同取向的基底所需要的條件不同:對于STO(001),YAO(001)(010)這些取向的基底我們通常需要較大的氧壓5Pa-10Pa左右;而STO(111)基底上卻需要極低的氧壓(1*10~(-5)Pa)。另外通過這種復合薄膜的生長,通過垂直有序結構施加應變,將反鐵磁序的SMO調控為鐵磁序,并且在室溫下觀察到明顯的磁滯回線。如何通過材料的組分配比和生長工藝的調節(jié)來逐步實現材料的鐵電性還需要進一步的探索和試驗?傊,我們對PLD生長過程中的一些生長機理進行了下探討,通過改變條件,來獲得不同價態(tài)的薄膜或者其復合薄膜,不同基底以及不同組份的靶材來獲得不同取向,不同結構的薄膜,并對這些薄膜的一些性質進行了仔細研究,為之后的研究奠定了基礎。
【關鍵詞】:脈沖激光沉積 Cu_2O薄膜 復合薄膜 光的吸收 應變 鐵磁性 微結構
【學位授予單位】:蘇州大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:TB383.2
【目錄】:
  • 中文摘要4-6
  • Abstract6-11
  • 第一章 緒論11-24
  • 1.1 研究背景及意義11-12
  • 1.2 材料簡介12-16
  • 1.2.1 銅及其氧化物12-14
  • 1.2.2 錳酸鍶和氧化鎳材料簡介及其研究進展14-15
  • 1.2.3 鐵電,鐵磁,,多鐵性材料簡介15-16
  • 1.3 復合氧化物薄膜16-18
  • 1.4 界面效應18-19
  • 1.5 本論文的研究意義和內容19-20
  • 參考文獻20-24
  • 第二章 靶材和薄膜的制備方法和表征手法24-37
  • 2.1 靶材的制備24-26
  • 2.2 薄膜的制備26-29
  • 2.2.1 脈沖激光沉積技術26-27
  • 2.2.2 脈沖激光沉積系統(tǒng)構造27-28
  • 2.2.3 薄膜的制備工藝28-29
  • 2.3 薄膜測試和表征方法29-36
  • 2.3.1 X射線衍射29-30
  • 2.3.2 原子力顯微鏡30-31
  • 2.3.3 掃描電子顯微鏡31
  • 2.3.4 透射電子顯微鏡31-32
  • 2.3.5 X射線能譜儀32-33
  • 2.3.6 UV-3600光的吸收測試33
  • 2.3.7 綜合物性測量系統(tǒng)33-36
  • 參考文獻36-37
  • 第三章 銅及其氧化物薄膜的制備及分析測試37-50
  • 3.1 引言37
  • 3.2 薄膜測試分析37-46
  • 3.2.1 靶材的X射線衍射分析37-38
  • 3.2.2 Cu及其氧化物薄膜的XRD分析38-42
  • 3.2.3 XPS及XAES分析測試42-46
  • 3.3 結果總結討論46-48
  • 參考文獻48-50
  • 第四章 銅及其氧化物薄膜的微結構及性質測試50-60
  • 4.1 引言50
  • 4.2 分析測試和討論50-57
  • 4.2.1 表面形貌分析測試50-54
  • 4.2.2 薄膜微結構測試54-55
  • 4.2.3 電性質測試55-56
  • 4.2.4 光性質測試56-57
  • 4.3 本章小結57-59
  • 參考文獻59-60
  • 第五章 SrMnO_3單相、復合薄膜的制備及物性研究60-77
  • 5.1 引言60
  • 5.2 單相薄膜的制備60-64
  • 5.2.1 單相靶材的制備60-62
  • 5.2.2 SMO單相薄膜的制備62-64
  • 5.2.3 NiO單相薄膜的制備64
  • 5.3 復合靶材及薄膜的制備64-66
  • 5.4 復合薄膜物性研究分析66-74
  • 5.4.1 復合薄膜微結構的研究66-70
  • 5.4.2 復合薄膜磁性測試70-74
  • 5.5 本章小結74-75
  • 參考文獻75-77
  • 第六章 總結77-79
  • 攻讀碩士期間公開發(fā)表的論文79-80
  • 致謝80-81

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