本文關(guān)鍵詞：高阻隔膜真空鍍膜工藝專利分析

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【摘要】：本文通過查找高阻隔膜相關(guān)專利,認(rèn)為通過設(shè)計(jì)鋪層結(jié)構(gòu)、增加阻隔層數(shù)目來提高阻隔性能將是高阻隔膜一重要發(fā)展方向。而為了兼顧成膜效率和膜層性能,在鍍膜工藝及設(shè)備技術(shù)方面的發(fā)展也可大致分為兩個方向,其一是設(shè)備的集成化處理,可實(shí)現(xiàn)單次沉積多個阻隔層;其二在于局部設(shè)備結(jié)構(gòu)的優(yōu)化,以提高采用現(xiàn)有技術(shù)所制備阻隔膜的性能。
【作者單位】： 樂凱集團(tuán)研究院;
【關(guān)鍵詞】： 阻隔膜 氣相沉積 鍍膜設(shè)備
【分類號】：TB306-18
【正文快照】： 1.前言相對于普通塑料薄膜材料,高阻隔膜對其阻氧性和阻水性提出了更高的要求,其在食品包裝、電子器件封裝、太陽能電池封裝等方面有較多的使用。一般高阻隔膜為多層結(jié)構(gòu),其阻隔層可通過涂布技術(shù)以及近年來迅速發(fā)展的鍍膜技術(shù)沉積到基材薄膜上。利用鍍膜技術(shù)能夠在基材表面形

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本文編號：656159