本文采用化學鍍法制備鎳基Fe₃O₄復合材料,研究了鍍液組成、沉積時間等對沉積速率、鍍層成分和表面形貌的作用。通過X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀(XPS)、掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)和光學顯微鏡對樣品的物相、成分和表面形貌進行表征。利用矢量網(wǎng)絡分析儀(VNA)對樣品電磁參數(shù)進行測量,并對其吸波性能進行模擬。本文主要研究內(nèi)容如下:(1)以水合肼作為還原劑檸檬酸鈉為絡合劑堿性條件下在紫銅基底表面化學鍍Ni-N合金,并對反應過程和鍍層生長機理進行探討。研究發(fā)現(xiàn)使用化學鍍技術在紫銅基底表面沉積了連續(xù)完整的Ni-N合金薄膜,反應條件可控且易于實現(xiàn),鍍液可在70℃左右進行化學鍍鎳。鍍層以層島結(jié)合形式生長,適當延長反應時間可得到厚度更大的鍍層。(2)采用兩步水熱法,在不同pH條件下制備出不同粒徑棒狀FeOOH作為反應前驅(qū)物,探究不同反應溫度和反應時間下所得還原產(chǎn)物形貌與前驅(qū)物形貌的關系,并研究了其吸波性能。研究表明該方法制得的樣品Fe₃O₄結(jié)晶度好,制備溫度低,制備的磁性粒子性能...

【文章頁數(shù)】：66 頁

【學位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第一章 緒論
    1.1 化學鍍Ni技術
        1.1.1 研究背景
        1.1.2 化學鍍鎳簡介
        1.1.3 化學鍍鎳合金
    1.2 鐵氧體吸波材料
        1.2.1 磁性材料的分類
        1.2.2 電磁波吸收劑的工作原理
        1.2.3 鐵氧體磁性材料的發(fā)展前景
        1.2.4 化學鍍技術在屏蔽材料中的應用
    1.3 本文的選題意義及內(nèi)容
        1.3.1 選題意義
        1.3.2 研究內(nèi)容
第二章 化學沉積Ni-N合金工藝
    2.1 前言
    2.2 紫銅基底上的化學鍍Ni-N合金
        2.2.1 紫銅基底上Ni-N合金鍍層制備流程
        2.2.2 紫銅基底上Ni-N合金鍍層表征與分析
    2.3 ABS塑料基底上的化學鍍Ni-N合金
        2.3.1 ABS塑料基底上Ni-N合金鍍層制備流程
        2.3.2 ABS塑料基底上Ni-N合金鍍層表征與分析
    2.4 Ni-N合金鍍層形成機理分析
    2.5 本章小結(jié)
第三章 Fe₃O₄制備及其吸波性能
    3.1 前言
    3.2 前驅(qū)物FeOOH的制備與表征
        3.2.1 實驗藥品
        3.2.2 前驅(qū)物FeOOH制備
        3.2.3 前驅(qū)物FeOOH物相分析
        3.2.4 前驅(qū)物FeOOH形貌分析
    3.3 Fe₃O₄粉體制備與表征
        3.3.1 實驗藥品
        3.3.2 Fe₃O₄粉體制備
        3.3.3 Fe₃O₄粉體物相分析
        3.3.4 Fe₃O₄粉體微觀形貌分析
    3.4 Fe₃O₄吸波性能分析
        3.4.1 Fe₃O₄粉體材料電磁參數(shù)的測量
        3.4.2 Fe₃O₄粉體材料吸波性能
    3.5 本章小結(jié)
第四章 化學沉積Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體的制備及其吸波性能
    4.1 前言
    4.2 實驗部分
        4.2.1 Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體制備
        4.2.4 Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體表征
    4.3 結(jié)果與討論
        4.3.1 溫度對Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體沉積速率的影響
        4.3.2 pH值對Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體沉積速率的影響
        4.3.3 Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體磁性分析
        4.3.4 Ni-P-Fe₃O₄ 復合粉體吸波性能分析
    4.4 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻
致謝
作者簡介及讀研期間主要科研成果



本文編號：3975632