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摻N多孔碳/氧化鎳錳和碳微納米管的聯(lián)合制備與電容性能的研究

發(fā)布時(shí)間:2024-05-11 18:20
  以煤基聚苯胺為碳氮源,乙酸鎳、二茂鎳為催化劑前驅(qū)體,采用分段控溫?zé)峤夤に嚭蚄MnO4氧化工藝,成功實(shí)現(xiàn)摻N多孔碳/氧化鎳錳和碳微納米管的聯(lián)合制備。分析發(fā)現(xiàn),碳微米管管徑在150400nm之間,碳納米管管徑在60nm左右,壁厚約10nm。多孔碳以介孔為主,BET比表面積為801.59m2/g,BJH平均孔徑為47.87nm;并成功實(shí)現(xiàn)N摻雜,部分N以結(jié)晶性良好的CNx的狀態(tài)存在。氧化鎳錳主要以NiO的化學(xué)狀態(tài)存在,伴生有NiMn2O4和α-MnO2;并以納米片的形態(tài)附著在多孔碳表面或插入在孔隙中。制備的摻N多孔碳/氧化鎳錳的比電容為387.18F/g(1A/g),1 000次充放電后的比電容保持率為81.48%(5A/g)。

【文章頁數(shù)】:6 頁

【部分圖文】:

圖4摻N多孔碳/鎳和摻N多孔碳/氧化鎳錳的XRD圖

圖4摻N多孔碳/鎳和摻N多孔碳/氧化鎳錳的XRD圖

074.67801.59587.720.480.270.2023.9547.872.4晶型結(jié)構(gòu)分析圖4(a)中44.51,51.85和76.37°處出現(xiàn)了明顯的衍射峰,與Ni的標(biāo)準(zhǔn)卡片(JCPDSNo.04-0850)相符合,分別對(duì)應(yīng)于Ni的(111)、(200)、(220)衍射....


圖5(b)與(d)均在-0.1和-0.7V附

圖5(b)與(d)均在-0.1和-0.7V附

DSNo.53-0633)α-MnO2的(310)衍射面,30.1和35.4°處對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)卡片(JCPDSNo.01-1110)NiMn2O4的(220)、(311)衍射面。這充分說明KMnO4對(duì)鎳的氧化是有效的,鎳主要轉(zhuǎn)變成NiO,同時(shí)伴生有NiMn2O4和α-MnO2。在圖4(....


圖6循環(huán)次數(shù)與比電容保持率的關(guān)系Fig6Therelationshipbetweencyclenumbersandspecificcapacitanceretention

圖6循環(huán)次數(shù)與比電容保持率的關(guān)系Fig6Therelationshipbetweencyclenumbersandspecificcapacitanceretention

原峰或平臺(tái),可能是它們的氧化還原電位未在測試窗口之內(nèi)或因電極反應(yīng)速度太快而未顯示。圖5(a)與(c)的CV曲線隨掃速的增加,環(huán)的形狀未發(fā)生明顯的變化,表明該復(fù)合電極材料具有較高的倍率性能。參照文獻(xiàn)[11]計(jì)算電極材料的比電容,能量密度和功率密度,結(jié)果見表2。比較發(fā)現(xiàn),氧化后的復(fù)合....


圖4摻N多孔碳/鎳和摻N多孔碳/氧化鎳錳的XRD圖

圖4摻N多孔碳/鎳和摻N多孔碳/氧化鎳錳的XRD圖

074.67801.59587.720.480.270.2023.9547.872.4晶型結(jié)構(gòu)分析圖4(a)中44.51,51.85和76.37°處出現(xiàn)了明顯的衍射峰,與Ni的標(biāo)準(zhǔn)卡片(JCPDSNo.04-0850)相符合,分別對(duì)應(yīng)于Ni的(111)、(200)、(220)衍射....



本文編號(hào):3970251

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