用原子力顯微鏡(AFM)和X射線衍射(XRD)研究了不同厚度Cu/Co雙層膜的表面形貌和微觀結(jié)構(gòu),并用振動樣品磁強(qiáng)計(VSM)測量了磁滯回線。實驗結(jié)果表明,薄膜表面由均勻島狀結(jié)構(gòu)組成,隨著Co薄膜厚度增加,"小島"高度升高,之后部分"小島"發(fā)生合并長大。當(dāng)Co薄膜厚度為5和15nm時,Co為fcc結(jié)構(gòu);當(dāng)Co薄膜厚度為30nm時,fcc結(jié)構(gòu)和hcp結(jié)構(gòu)同時存在。此外,隨著Co薄膜厚度增加,對應(yīng)磁滯回線矩形度逐漸變大,并且矯頑力和飽和磁化強(qiáng)度逐漸增大。

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【文章目錄】：
0 引言
1 實驗材料與方法
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



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