采用原子層沉積(ALD)技術(shù),以四氯化鈦和水為前驅(qū)體,在鈉鈣玻璃襯底上沉積TiO₂薄膜,并進(jìn)行微波退火處理。通過拉曼光譜、紫外-可見分光光度計、X射線衍射儀(XRD)和原子力顯微鏡(AFM)等,對不同微波退火溫度下TiO₂薄膜的表面形貌、物相結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,所制備的樣品為銳鈦礦型TiO₂薄膜,微波退火溫度達(dá)到500℃時晶粒尺寸最大,為21.71 nm。其拉曼光譜的144 cm^-1峰位沒有發(fā)生偏移,但強(qiáng)度略有變化。隨著微波退火溫度的升高,TiO₂薄膜的透過率先下降后升高,折射率和消光系數(shù)則先增加后下降。擬合得到的TiO₂薄膜的禁帶寬度從3.43 eV降到3.17 eV。通過AFM觀察到微波退火促進(jìn)了原子重新排列,改善了表面粗糙度,形成了均勻的銳鈦礦型TiO₂薄膜。

【文章頁數(shù)】：7 頁

【文章目錄】：
0 引言
1 實(shí)驗部分
    1.1 TiO2薄膜的制備
    1.2 TiO2薄膜的表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 TiO2薄膜的物相結(jié)構(gòu)
    2.2 TiO2薄膜的表面形貌
    2.3 TiO2薄膜的光學(xué)性能
3 結(jié)論



本文編號：3870575