針對(duì)現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)樣板存在循跡結(jié)構(gòu)不明顯,有效尺寸結(jié)構(gòu)難以定位等問題,本文將設(shè)計(jì)有效結(jié)構(gòu)特征明顯、測量效率高效的標(biāo)準(zhǔn)樣板作為研究重點(diǎn)。首先對(duì)計(jì)量型納米測量儀(NMM)中的激光干涉儀進(jìn)行拍頻實(shí)驗(yàn),保證移動(dòng)平臺(tái)內(nèi)激光干涉儀的穩(wěn)定性與可溯源性。設(shè)計(jì)并制備了臺(tái)階高度為60nm具有可循跡結(jié)構(gòu)臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板及一維、二維柵格標(biāo)準(zhǔn)樣板,對(duì)其加工工藝進(jìn)行了相關(guān)的研究,并使用計(jì)量型NMM對(duì)其進(jìn)行了可溯源性校準(zhǔn)與驗(yàn)證。主要研究內(nèi)容與結(jié)果總結(jié)如下:(1)研究了計(jì)量型NMM的工作原理及其溯源性,對(duì)具有激光干涉儀的計(jì)量型NMM的可溯源性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn),依據(jù)激光干涉儀的檢定規(guī)程對(duì)計(jì)量型NMM中的三軸激光干涉儀進(jìn)行了拍頻實(shí)驗(yàn),確保其測量結(jié)果的可溯性與可靠性。通過可以溯源至NIST的VLSI STS2-1000S標(biāo)準(zhǔn)樣板對(duì)計(jì)量型的NMM進(jìn)行測量實(shí)驗(yàn),確保了儀器測量結(jié)果的精確性。(2)對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣板的循跡結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,設(shè)計(jì)了標(biāo)準(zhǔn)值為60nm,具有可循跡結(jié)構(gòu)的納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板,并對(duì)加工標(biāo)準(zhǔn)樣板的半導(dǎo)體加工工藝進(jìn)行了研究。使用具有溯源性的計(jì)量型NMM結(jié)合多種測量方法對(duì)其進(jìn)行測量與表征,并開展標(biāo)準(zhǔn)樣板的局部均勻性與長時(shí)間穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果...

【文章頁數(shù)】：61 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
致謝
摘要
abstract
1 緒論
    1.1 課題研究背景和意義
    1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
    1.3 課題主要研究內(nèi)容
2 納米測量儀(NMM)的溯源性
    2.1 本章引論
    2.2 納米測量儀的測量系統(tǒng)
    2.3 納米測量儀的溯源性研究
        2.3.1 納米量值溯源體系
        2.3.2 NMM的激光拍頻實(shí)驗(yàn)
    2.4 基于納米測量儀的量值溯源體系
    2.5 納米測量儀的測量實(shí)驗(yàn)
        2.5.1 NMM對(duì)VLSI樣板的重復(fù)性測量實(shí)驗(yàn)
        2.5.2 NMM對(duì)VLSI樣板的穩(wěn)定性測量實(shí)驗(yàn)
    2.6 本章小結(jié)
3 可循跡納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的制備與表征
    3.1 本章引論
    3.2 納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)
    3.3 納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的制備工藝
        3.3.1 襯底材料準(zhǔn)備
        3.3.2 襯底材料硅的氧化
        3.3.3 涂膠
        3.3.4 曝光
        3.3.5 顯影
        3.3.6 刻蝕
        3.3.7 去膠
        3.3.8 濺射
    3.4 納米臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的表征
        3.4.1 測量設(shè)備
        3.4.2 測量的過程與結(jié)果分析
        3.4.3 臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的區(qū)域均勻性
        3.4.4 臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板的穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)
    3.5 本章小結(jié)
4 柵格標(biāo)準(zhǔn)樣板的研制與評(píng)價(jià)
    4.1 本章引論
    4.2 柵格微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的制備
        4.2.1 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)
        4.2.2 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的制備工藝
    4.3 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的表征
        4.3.1 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的測量過程
        4.3.2 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的質(zhì)量參數(shù)
        4.3.3 一維柵格樣板的周期與均勻性
        4.3.4 二維柵格樣板的周期與均勻性
        4.3.5 微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板的穩(wěn)定性分析
    4.4 本章小結(jié)
5 總結(jié)與展望
    5.1 總結(jié)
    5.2 創(chuàng)新點(diǎn)
    5.3 工作展望
參考文獻(xiàn)
作者簡歷



本文編號(hào)：3774403