采用化學(xué)氣相沉積法,以Si O2/Si為襯底、鎳膜為催化層,研究不同催化層厚度對(duì)石墨烯生長(zhǎng)的影響。選擇拉曼光譜,透射電子顯微鏡等手段對(duì)石墨烯的層數(shù)和質(zhì)量進(jìn)行表征。結(jié)果表明,隨著Ni膜厚度的增加,石墨烯的缺陷減小,而且層數(shù)也減少,當(dāng)Ni膜厚度為300 nm時(shí),可以在Si O2/Si基板上獲得高質(zhì)量的單層石墨烯。 

【文章來源】：材料熱處理學(xué)報(bào). 2016,37(01)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：4 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)材料及方法
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3613278