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粒子入射角變化條件下類金剛石碳膜的制備及性能研究

發(fā)布時間:2017-05-12 20:19

  本文關鍵詞:粒子入射角變化條件下類金剛石碳膜的制備及性能研究,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:本文利用中頻磁控濺射技術以純石墨靶/純石墨靶甲烷為碳源在單晶硅基底上制備了不含氫/含氫類金剛石碳膜(hydrogen-free/hydrogenated amorphous carbon,a-C/a-C:H),考察了粒子入射角度以及粒子掠入射周期(基底轉動速度)對薄膜表面形貌、微觀結構、力學和摩擦學性能的影響,主要研究內(nèi)容如下:1.研究了粒子入射角度對a-C薄膜表面形貌、微觀結構及性能的影響。結果表明,隨著粒子入射角度的增加,薄膜沉積速率呈現(xiàn)近余弦規(guī)律的減小趨勢,表面均方根粗糙度經(jīng)歷緩慢增大和急劇增大兩個階段。XPS和Raman分析結果顯示:隨著粒子入射角度的增加薄膜中sp3/sp2比率減小。薄膜的硬度隨著粒子入射角度的增加逐漸減小;薄膜內(nèi)應力隨粒子入射角度的增加出現(xiàn)壓應力向拉應力的轉變,壓-拉應力轉換點介于30°到45°之間,且應力值先減小后增大。隨粒子入射角度的增加,薄膜摩擦系數(shù)增大,耐磨性變差。2.研究了粒子入射角度對a-C:H薄膜表面形貌、微觀結構及性能的影響。結果表明,隨著粒子入射角度的增加,沉積速率先增大后減小,15°時薄膜沉積速率最高,為10.24 nm/min;薄膜表面陰影效應加劇,表面均方根粗糙度逐漸增大。Raman和XPS分析結果顯示,隨著粒子入射角度的增加,薄膜sp3/sp2比率在0.86-1.22之間呈現(xiàn)先增加后減小再增加的變化趨勢。與a-C薄膜相類似,薄膜內(nèi)應力隨粒子入射角度的增加同樣出現(xiàn)壓應力向拉應力的轉變。粒子入射角度為30°時制備的薄膜內(nèi)應力低而硬度最大,分別為-0.037 Gpa和14.22 Gpa。因此,可以通過合理控制粒子入射角度來制備超低應力的薄膜。3.研究了基底轉動速度對a-C和a-C:H薄膜表面形貌、微觀結構及性能的影響。結果表明,基底轉動導致薄膜生長模式從基底固定時的連續(xù)生長轉變?yōu)樵?分子)層生長。對于a-C薄膜,基底轉動條件下生長速率約為基底固定時的1/3,且隨著基底轉速的增加逐漸減小;3 r/min時沉積薄膜表面均勻光滑,此后隨著轉動速度的增大薄膜表面粗糙增大;隨著基底轉動速度的增加,薄膜sp3/sp2比率呈近似線性減小趨勢,硬度逐漸減小,耐磨性變差。而對于a-C:H薄膜,基底轉動條件下生長速率約為基底固定時的1/2;表面粗糙度隨基底轉動速的變化規(guī)律與a-C薄膜剛好相反,在3 r/min時表面粗糙度最大,為0.58 nm;邹D動條件下制備的薄膜均具有相對較高的硬度和楊氏模量,摩擦系數(shù)較為穩(wěn)定。
【關鍵詞】:類金剛石碳膜 粒子入射角 表面形貌 力學性能 摩擦學性能
【學位授予單位】:蘭州理工大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:TB383.2
【目錄】:
  • 摘要7-8
  • Abstract8-10
  • 第一章 緒論10-22
  • 1.1 非晶碳膜的結構和分類10-12
  • 1.2 類金剛石薄膜的生長模型12-13
  • 1.3 類金剛石碳膜的制備13-15
  • 1.3.1 物理氣相沉積(PVD)14
  • 1.3.2 化學氣相沉積(CVD)14
  • 1.3.3 液相沉積技術14-15
  • 1.4 非晶碳膜的表征15-17
  • 1.4.1 形貌分析15
  • 1.4.2 結構分析15-17
  • 1.5 類金剛石碳膜的應用17-18
  • 1.6 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀18-20
  • 1.7 本文的選題依據(jù)和研究內(nèi)容20-22
  • 1.7.1 選題依據(jù)20-21
  • 1.7.2 主要研究內(nèi)容21-22
  • 第二章 粒子入射角度對a-C薄膜表面形貌、微結構及性能影響的研究22-37
  • 2.1 引言22
  • 2.2 實驗部分22-23
  • 2.2.1 實驗裝置22
  • 2.2.2 薄膜的制備22-23
  • 2.3 薄膜的表征23-24
  • 2.4 結果與討論24-36
  • 2.4.1 沉積速率24-25
  • 2.4.2 形貌分析25-28
  • 2.4.2.1 SEM分析25-26
  • 2.4.2.2 AFM分析26-28
  • 2.4.3 XPS分析28-30
  • 2.4.4 Raman光譜30-32
  • 2.4.5 粒子入射角度對a-C薄膜性能的影響32-36
  • 2.4.5.1 力學性能32-35
  • 2.4.5.2 摩擦學性能35-36
  • 2.5 本章小結36-37
  • 第三章 粒子入射角度對a-C:H薄膜表面形貌、微結構及性能影響的研究37-47
  • 3.1 引言37
  • 3.2 薄膜的制備與表征37
  • 3.3 結果與討論37-46
  • 3.3.1 沉積速率37-39
  • 3.3.2 AFM分析39-40
  • 3.3.3 XPS分析40-42
  • 3.3.4 Raman光譜42-43
  • 3.3.5 粒子入射角度對a-C:H薄膜性能的影響43-46
  • 3.3.5.1 力學性能43-44
  • 3.3.5.2 摩擦學性能44-46
  • 3.4 本章小結46-47
  • 第四章 基底轉動速度對a-C薄膜表面形貌、微結構及性能影響的研究47-56
  • 4.1 引言47
  • 4.2 薄膜的制備47-48
  • 4.3 薄膜的表征48
  • 4.4 結果與討論48-55
  • 4.4.1 沉積速率48-49
  • 4.4.2 AFM分析49-51
  • 4.4.3 XPS分析51-52
  • 4.4.4 Raman光譜52-53
  • 4.4.5 基底轉動速度對a-C薄膜性能的影響53-55
  • 4.5 本章小結55-56
  • 第五章 基底轉動速度對a-C:H碳膜表面形貌、微結構及性能影響的研究56-65
  • 5.1 引言56
  • 5.2 薄膜的制備與表征56
  • 5.3 結果與討論56-63
  • 5.3.1 沉積速率56-57
  • 5.3.2 AFM分析57-59
  • 5.3.3 XPS分析59-60
  • 5.3.4 Raman光譜60-61
  • 5.3.5 基底轉動速度對a-C:H薄膜性能的影響61-63
  • 5.4 本章小結63-65
  • 結論65-67
  • 1.主要結論65-66
  • 2.本文的創(chuàng)新之處66-67
  • 參考文獻67-75
  • 致謝75-76
  • 附錄A 攻讀碩士學位期間所發(fā)表的學術論文目錄76

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  本文關鍵詞:粒子入射角變化條件下類金剛石碳膜的制備及性能研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。



本文編號:360774

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