磁控濺射MoS₂薄膜被廣泛應(yīng)用于空間飛行器活動(dòng)部件,但目前關(guān)于低能質(zhì)子輻照對(duì)磁控濺射MoS₂薄膜微觀組織結(jié)構(gòu)的影響機(jī)制的研究相對(duì)較少。本文分別借助掃描電子顯微鏡（SEM）、X射線(xiàn)衍射儀（XRD）、X射線(xiàn)光電子能譜儀（XPS）、透射電子顯微鏡（TEM）等多種手段對(duì)低能質(zhì)子輻照后磁控濺射MoS₂薄膜的微觀組織結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析;利用輪廓儀和銷(xiāo)盤(pán)式摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)對(duì)輻照前后薄膜的粗糙度以及摩擦磨損性能進(jìn)行測(cè)試。研究結(jié)果表明,經(jīng)質(zhì)子輻照后,磁控濺射MoS₂薄膜內(nèi)會(huì)產(chǎn)大量的缺陷,隨著輻照注量的增大MoS₂薄膜內(nèi)晶體結(jié)構(gòu)的有序化程度逐漸降低,產(chǎn)生大量空位和位移等缺陷,而這些缺陷在輻照作用下傾向于發(fā)生團(tuán)聚,使晶格發(fā)生畸變發(fā)生層片卷曲收縮形成的納米微球;同時(shí),質(zhì)子輻照除了對(duì)MoS₂薄膜內(nèi)部的組織結(jié)構(gòu)產(chǎn)生較大的影響以外,同時(shí)也會(huì)產(chǎn)生較強(qiáng)的濺射作用,隨著輻照注量的增大濺射程度也略有增大,使得輻照前后MoS₂表面粗糙度產(chǎn)生較大變化。經(jīng)質(zhì)子輻照后,摩擦學(xué)性能出現(xiàn)了規(guī)... 

【文章來(lái)源】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁(yè)數(shù)】：64 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

不同晶體結(jié)構(gòu)MoS2的示意圖

MoS2晶體的滑移面

富勒烯結(jié)構(gòu)MoS2生長(zhǎng)機(jī)理示意圖

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]CVD法單層MoS2在209Bi離子輻照下的損傷效應(yīng)研究[J]. 吳楊,孫友梅,劉杰,翟鵬飛,郭航,姚會(huì)軍,劉建德,羅捷.  原子核物理評(píng)論. 2018(01)
[2]水熱法合成二硫化鉬花狀微球及其電容性能研究[J]. 李方,高玉偉,張志毅,劉亞青,趙東林,白利忠.  功能材料. 2017(03)
[3]負(fù)載型鎳對(duì)不同形貌納米二硫化鉬制備的影響研究[J]. 伍鑫,韓陽(yáng),楊云鵬.  世界有色金屬. 2016(14)
[4]類(lèi)石墨烯二硫化鉬結(jié)構(gòu)演變行為研究[J]. 蔡聰聰,黃仲佳,劉明朗,王剛,段園培.  人工晶體學(xué)報(bào). 2015(09)
[5]納米結(jié)構(gòu)二硫化鉬的制備及其應(yīng)用[J]. 翟英嬌,李金華,楚學(xué)影,徐銘澤,李雪,方鉉,魏志鵬,王曉華.  無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào). 2015(09)
[6]Au的金屬顆粒對(duì)二硫化鉬發(fā)光增強(qiáng)[J]. 魏曉旭,程英,霍達(dá),張宇涵,王軍轉(zhuǎn),胡勇,施毅.  物理學(xué)報(bào). 2014(21)
[7]不銹鋼低溫滲氮/滲碳S相滲層技術(shù)的研究進(jìn)展[J]. 孫金全,崔洪芝,赫慶坤,劉贊,陶鵬,閻璐.  熱處理技術(shù)與裝備. 2013(06)
[8]二硫化鉬中空微球的制備、表征以及光催化性能(英文)[J]. 楊依萍,李卓民,楊玉超,鄧文禮.  無(wú)機(jī)化學(xué)學(xué)報(bào). 2012(07)
[9]富勒烯結(jié)構(gòu)二硫化鉬研究現(xiàn)狀[J]. 高賓.  中國(guó)鎢業(yè). 2011(02)
[10]高能電子輻照對(duì)二硫化鉬填充酚酞聚芳醚酮復(fù)合材料摩擦磨損性能影響的研究[J]. 田農(nóng),王鴻靈,馮治中,閻逢元.  電子顯微學(xué)報(bào). 2003(06)

博士論文
[1]2Cr13鋼滲氮層在真空干滑動(dòng)與脂潤(rùn)滑條件下摩擦學(xué)行為[D]. 楊劍群.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2010



本文編號(hào)：3393744