采用磁控濺射法在FTO（摻氟二氧化錫）玻璃基底表面沉積金屬Zn層,再將其置于雙氧水溶液中,通過納秒脈沖激光對(duì)其表面進(jìn)行輻照處理來實(shí)現(xiàn)ZnO納米結(jié)構(gòu)的制備。研究了激光能量密度和掃描速率對(duì)ZnO納米結(jié)構(gòu)的形成和得到的ZnO納米結(jié)構(gòu)復(fù)合FTO（Zn O/FTO）薄膜表面形貌和光電性能的影響。結(jié)果表明,當(dāng)Zn層厚度為200 nm時(shí),可保證FTO薄膜表面既出現(xiàn)完整的Zn O納米結(jié)構(gòu),又僅有少量Zn剩余。當(dāng)激光能量密度為0.80 J/cm2,掃描速率為15 mm/s時(shí),FTO薄膜表面制備出了均勻一致性最好的ZnO納米結(jié)構(gòu),此時(shí)ZnO/FTO薄膜有最佳的光電性能,其在400～800 nm波段的平均透光率為70.18%,平均反射率為7.10%,方塊電阻為9.23Ω。 

【文章來源】：電鍍與涂飾. 2020,39(15)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 樣品的制備
    1.2 樣品的結(jié)構(gòu)、形貌與性能表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 Zn層厚度的確定
    2.2 激光能量密度對(duì)ZnO/FTO薄膜表面形貌及光電性能的影響
        2.2.1 薄膜的表面形貌
        2.2.2 薄膜的光電性能
    2.3 激光掃描速率對(duì)ZnO/FTO薄膜表面形貌及光電性能的影響
        2.3.1 薄膜的表面形貌
        2.3.2 薄膜的光電性能
    2.4 ZnO/FTO薄膜的晶體結(jié)構(gòu)
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]氧化鋅基陣列染料敏化太陽(yáng)能電池研究進(jìn)展[J]. 邵艷秋,于平,鄭友進(jìn),王麗杰,王星月.  人工晶體學(xué)報(bào). 2019(10)
[2]電化學(xué)Fe摻雜增強(qiáng)FTO薄膜的可見光光電化學(xué)性能[J]. 肖仕清,郝麗華,謝萌陽(yáng),馬榮偉,牛振江.  電鍍與涂飾. 2017(09)



本文編號(hào)：3181606