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分層納米結(jié)構(gòu)的鈷酸鎳/四氧化三鈷復合電極的制備及其電化學性能研究

發(fā)布時間:2020-12-20 20:33
  通過低溫溶劑熱和水熱兩步法成功制備出分層結(jié)構(gòu)的NiCo2O4/Co3O4納米片陣列,并均勻生長在泡沫鎳基底上。電化學測試表明,這種納米片陣列復合電極表現(xiàn)出優(yōu)異的電容性能。在2 mA·cm-2時,面積比電容高達6.05 F·cm-2,當電流密度提升至20 mA·cm-2,依然保持良好的倍率性能,經(jīng)1500次恒流充放電之后電容保持率為93.8%。這種優(yōu)異的性質(zhì)與介孔、高比表面積的分層納米片這一新穎的結(jié)構(gòu)有密切關(guān)系。 

【文章來源】:中國陶瓷. 2017年10期 北大核心

【文章頁數(shù)】:7 頁

【文章目錄】:
0 引言
1 實驗
    1.1 樣品制備
    1.2 樣品的表征
    1.3 電化學性能測試
2 結(jié)果與討論
    2.1 物相分析 (XRD和EDS分析)
    2.2 SEM分析
    2.3 TEM分析
    2.4 BET分析
    2.5 電化學性能測試
        2.5.1 循環(huán)伏安測試 (CV)
        2.5.2 恒電流充放電測試 (GCD)
        2.5.3 循環(huán)壽命測試
3 結(jié)論



本文編號:2928506

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