新型鉍基氧硫族低維材料的制備與光電性能研究
【圖文】:
圖 1-1 鉍氧硫材料的晶體結(jié)構(gòu)[7]最近,北京大學(xué)的彭海琳課題組成功地采用化學(xué)氣相沉積法合成了一種新型的具有弱層間靜電相互作用的二維材料 Bi2O2Se[8]。該材料在低溫下具有合適的帶隙和超高的霍爾遷移率,更重要的是,即使在空氣中暴露數(shù)月,也能表現(xiàn)出良好的環(huán)境穩(wěn)定性。在合成 BiOSe 片材的啟發(fā)下,,人們還注意到了 BiOT( Bi6O8S5)
圖 1-2 鉍氧硫族材料的幾何結(jié)構(gòu)[13]Bi2O2Se (Bi2O2Te)的晶胞 b)Bi2O2Se (Bi2O2Te)的原始晶胞 c)Bi2O2S 的原始表 1-1 Bi2O2Se,Bi2O2Te 和 Bi2O2S 材料的晶格常數(shù)[13]
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TM53;TB34
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本文編號(hào):2710500
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