【摘要】：目的將通常不適用于顆�；椎拇趴貫R射方法應(yīng)用于納米顆粒基底,以探索簡單、快速、無污染的納米顆粒表面負載金屬新方法。方法采用往復(fù)擺動樣品臺和變頻振動發(fā)生器,將二氧化鈦納米顆粒充分分散,用磁控濺射方法在其表面負載了金屬金納米點,并初步研究了不同濺射功率對實驗結(jié)果的影響。借助掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)與X射線光電子能譜分析(XPS)對所制備的納米復(fù)合顆粒進行了形貌、結(jié)構(gòu)和成分表征。結(jié)果使用磁控濺射方法,在平均粒徑為21 nm的二氧化鈦顆粒表面成功負載了粒徑約1~10 nm的金屬金納米點,其分布均勻,與基底產(chǎn)生了緊密結(jié)合。結(jié)論磁控濺射方法可以應(yīng)用于納米顆粒表面負載金屬。
[Abstract]:Aim to apply magnetron sputtering method which is usually not suitable for particle substrates to explore a new method of metal loading on the surface of nanocrystalline particles which is simple fast and pollution-free. Methods the titanium dioxide nanoparticles were dispersed by reciprocating oscillating sample table and frequency conversion vibration generator. The metal gold nanoparticles were loaded on the surface by magnetron sputtering. The effect of different sputtering power on the experimental results was studied preliminarily. (SEM), transmission electron microscope (TEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) were used to characterize the morphology, structure and composition of the composite nanoparticles prepared by scanning electron microscope (SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Results using magnetron sputtering method, the metallic gold nanoparticles with an average diameter of 21 nm were successfully loaded on the surface of titanium dioxide particles with an average diameter of 1 ~ 10 nm, which was uniformly distributed and closely bonded with the substrate. Conclusion the method of magnetron sputtering can be used to load metal on the surface of nanoparticles.
【作者單位】： 北京航空航天大學(xué);
【分類號】：TB306;TB383.1

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本文編號：2350983