【摘要】：薄膜的制備工藝技術(shù)是通過(guò)各種工藝條件的控制,如真空、膜厚監(jiān)控和溫度控制等來(lái)使蒸發(fā)膜料在基片沉積形成薄膜狀態(tài)。每一個(gè)工藝因素都可能對(duì)最終薄膜的性質(zhì)產(chǎn)生重大影響�，F(xiàn)在制備技術(shù)已經(jīng)經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期發(fā)展,種類(lèi)很多,最常用的一種就是真空熱蒸發(fā)方法。寬帶增透膜在光學(xué)器件生產(chǎn)中有著重要作用。為滿(mǎn)足望遠(yuǎn)鏡等光學(xué)系統(tǒng)中光學(xué)元件可見(jiàn)光范圍寬光譜增透的使用要求,根據(jù)Tfcalc軟件優(yōu)化設(shè)計(jì)膜系,使用離子輔助沉積,晶振膜厚控制儀,電子束熱蒸發(fā)鍍膜方法,通過(guò)對(duì)鍍膜工藝參數(shù)的不斷改進(jìn)和調(diào)整,制備400-700nm的寬帶增透膜。結(jié)果表明:所制作的可見(jiàn)光增透膜在400-700nm之間平均反射率達(dá)到0.36%,優(yōu)于望遠(yuǎn)鏡等光學(xué)系統(tǒng)的增透要求,確定一套優(yōu)化的鍍膜工藝。濾光片在美容、數(shù)碼和軍事等方面應(yīng)用廣泛,針對(duì)美容機(jī)常用的長(zhǎng)波通濾光片,設(shè)計(jì)出640nm中心波長(zhǎng)的膜系。使用真空鍍膜機(jī)通過(guò)電子束蒸發(fā)的方法對(duì)膜系進(jìn)行鍍制。合理的設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)流程,并對(duì)所鍍膜層進(jìn)行性能分析。實(shí)驗(yàn)對(duì)濾光片影響因素進(jìn)行了分析,最終獲得中心波長(zhǎng)636nm左右,通帶和截止帶都優(yōu)于產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)的長(zhǎng)波通濾光片。采用電子束熱蒸發(fā)和無(wú)端離子源的設(shè)計(jì)工藝鍍制的濾光片溫漂和透過(guò)率變化相比其它工藝組合要小的多,光譜穩(wěn)定,并擁有較好的低應(yīng)力控制能力。
[Abstract]:The preparation technology of the film is to make the evaporative film deposited on the substrate to form the film state through the control of various technological conditions such as vacuum film thickness monitoring and temperature control. Each process factor may have a significant impact on the properties of the final film. Now the preparation technology has been developed for a long time, there are many kinds, one of the most commonly used is vacuum thermal evaporation method. Broadband antireflection film plays an important role in the production of optical devices. In order to meet the requirements of wide spectrum antireflection of optical elements in optical systems such as telescopes, according to the Tfcalc software, the film system is optimized, ion assisted deposition, crystal oscillator film thickness control instrument, electron beam thermal evaporation coating method are used. The wide band antireflection film of 400-700nm was prepared by improving and adjusting the process parameters. The results show that the average reflectivity of the antireflection film between 400-700nm is 0.36, which is better than the antireflection requirement of optical system such as telescope, and a set of optimized coating process is determined. The filter is widely used in beauty, digital and military applications. The 640nm central wavelength film system is designed for the long wave pass filter commonly used in the beauty machine. The vacuum coating machine was used to prepare the film system by electron beam evaporation. The experiment flow is designed reasonably, and the performance of the coating is analyzed. The influence factors of filter were analyzed and the central wavelength 636nm was obtained. The pass band and cutoff band were superior to the standard long wave pass filter. The temperature drift and the change of transmittance of the filter prepared by electron beam thermal evaporation and endless ion source plating are much smaller, the spectrum is stable, and the control ability of low stress is better than that of other processes.
【學(xué)位授予單位】：青島大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類(lèi)號(hào)】：TB383.2

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本文編號(hào)：2256672