本文關(guān)鍵詞：熱絲CVD金剛石涂層溫度場(chǎng)補(bǔ)償優(yōu)化研究

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【摘要】：采用熱絲化學(xué)氣相沉積法(chemical vapor deposition,CVD)制備金剛石薄膜時(shí),對(duì)反應(yīng)室溫度場(chǎng)尤其是襯底溫度的精確控制是沉積高質(zhì)量CVD金剛石膜的主要難點(diǎn)之一。在現(xiàn)有HF 650熱絲CVD設(shè)備的基礎(chǔ)上進(jìn)行優(yōu)化研究,基于熱反射原理,采用Fluent軟件進(jìn)行模擬仿真計(jì)算,據(jù)此提出了反應(yīng)室溫度場(chǎng)補(bǔ)償裝置,即:在熱絲CVD設(shè)備基臺(tái)表面與四周布置反射板。對(duì)改進(jìn)后的設(shè)備進(jìn)行試驗(yàn)對(duì)比分析。研究結(jié)果表明:利用溫度場(chǎng)補(bǔ)償裝置使襯底溫度波動(dòng)從原本的9.3%縮小到3.0%,有效改善熱絲CVD系統(tǒng)襯底溫度場(chǎng)的均勻性,并通過(guò)試驗(yàn)測(cè)試得到驗(yàn)證。用該裝置制備的金剛石薄膜中金剛石與石墨的拉曼峰強(qiáng)度比值I_D/I_G=4.33,說(shuō)明金剛石成膜質(zhì)量得到提高。
【作者單位】： 同濟(jì)大學(xué);中石化科技部;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助(51275358) 中央高校專(zhuān)項(xiàng)基金資助(20140750)
【分類(lèi)號(hào)】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： 隨著汽車(chē)、航空航天、微機(jī)械加工等領(lǐng)域的飛速發(fā)展,一些強(qiáng)度高、耐磨性好、熱膨脹系數(shù)小的新型材料,如增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料、碳纖維增強(qiáng)材料和新型陶瓷材料等,得到了廣泛的應(yīng)用[1 2]。而金剛石薄膜因具有高硬度、高導(dǎo)熱率、低摩擦系數(shù)以及良好的自潤(rùn)滑性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)異的性

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本文編號(hào)：1235510