發(fā)布時間：2024-01-16 17:42

　　本文基于空間分布視角,研究技術創(chuàng)新產出的空間非均衡狀態(tài)及其動態(tài)規(guī)律,結果顯示:①非均衡狀態(tài)處于中高水平區(qū)間,呈現"長期上升→快速下降"的倒U型特征,2011年為拐點,區(qū)域間差異是最大貢獻因子,其次是區(qū)域內差異;②不同創(chuàng)新品種對非均衡分布的影響為正,實質性創(chuàng)新發(fā)展較為緩慢,以策略性創(chuàng)新為主;③低水平和高水平兩種產出類型"自身鎖定"概率較高,分別為92%和99%,技術創(chuàng)新發(fā)展中的機遇與挑戰(zhàn)并存,中低和中高水平類型狀態(tài)躍遷概率也較高,中低水平→高水平為26%、中低水平→高水平為5%、中高水平→高水平為47%,同時,中高水平→中低水平為6%�？臻g均衡演進過程將是長期的,到2030年高水平省份將達到85%,2050年為95%。應向關鍵技術和前沿技術為代表的高質量創(chuàng)新領域傾斜,完善空間溢出通道,通過區(qū)域協(xié)同發(fā)展加速向技術引領型國家轉型。

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本文編號：3878870