工業(yè)惡臭污染問題日益受到人們的關(guān)注與重視,現(xiàn)有的控制技術(shù)尚不完善,尤其是對于低濃度大氣量惡臭廢氣經(jīng)濟高效的處理方法尚不多,因此研究探索經(jīng)濟有效的惡臭治理方法十分迫切。低溫等離子體是一項處理惡臭廢氣的新興技術(shù),可以大大降低惡臭脫除工藝的復雜性和投資運行費用,引起了人們的重視和深入研究。本論文旨在探索試驗低溫等離子體技術(shù)用于含吡啶廢氣治理,擬通過工業(yè)應用試驗研究,試圖為大規(guī)模工程設計和工藝控制提供所必需的實驗數(shù)據(jù)和理論基礎。本文首先對模擬醫(yī)化企業(yè)實際氣體配制的含吡啶惡臭氣體進行了較為系統(tǒng)的實驗研究。在此基礎上,設計了等離子體-吸收處理吡啶廢氣工程試驗裝置,并進行了運行分析。實驗采用最大輸出電壓為30kV（工程試驗60kV）的直流電源,實驗規(guī)模為0.06-10m3/h。本文的主要內(nèi)容及取得的成果和結(jié)論如下：1、應用低溫等離子體對醫(yī)化行業(yè)中的惡臭氣體中代表性污染物——吡啶進行脫除試驗。采用自制高壓直流電源,在氧化氛圍中進行了脫臭試驗。實驗考察了峰值電壓、停留時間和初始濃度等工藝參數(shù)對去除率的影響。結(jié)果表明：（1）低溫等離子體技術(shù)能有效處理含吡啶廢氣,去除率可達85%以上。（2）提高峰值電壓可以... 

【文章來源】：浙江大學浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：71 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

催化焚燒系統(tǒng)裝置圖

圖2.2TIO:光催化氧化治理惡臭氣體示意圖F19.2.2SehemeofthelaboratoryPhoto一reaetorused體在水中或其它溶液中溶解度較大，或惡臭物質(zhì)體吸收法治理。惡臭氣體常見吸收劑有苛性鈉、鈉等。法的典型工藝流程如圖2.3所示【”]。吸收液從塔料滴流;惡臭氣體從吸收塔底部進入，通過孔的這種對流方式產(chǎn)生湍流，增大了表面接觸面積降落至吸收塔的下部。溶液飽和后被收集進入分再循環(huán)使用。凈化后的氣體從吸收塔頂部排放。

可用液體吸收法治理。惡臭氣體常見吸收劑有苛性鈉、次氯酸鈉、硫酸、鹽酸、亞硫酸鈉等。液體吸收法的典型工藝流程如圖2.3所示【”]。吸收液從塔頂部進入噴淋到填料上，順著填料滴流;惡臭氣體從吸收塔底部進入，通過孔隙空間向上運行;氣、液相之間的這種對流方式產(chǎn)生湍流，增大了表面接觸面積;吸收液與惡臭氣體充分接觸后降落至吸收塔的下部。溶液飽和后被收集進入分離塔，經(jīng)處理去除污染物后溶液再循環(huán)使用。凈化后的氣體從吸收塔頂部排放。

【參考文獻】：
期刊論文
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[3]Fereducer反應強化直流電暈自由基簇射治理苯[J]. 李明波,康穎,吳祖成.  環(huán)境科學. 2005(06)
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博士論文
[1]脈沖放電等離子體治理有機廢氣放大試驗研究[D]. 聶勇.浙江大學 2004
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碩士論文
[1]直流電暈放電誘導自由基簇射治理有機廢氣的實驗研究[D]. 李明波.浙江大學 2005



本文編號：3013460