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技術(shù)創(chuàng)新、技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)——基于1985—2012年“中國(guó)電子信息企業(yè)百?gòu)?qiáng)”數(shù)據(jù)

發(fā)布時(shí)間:2021-04-14 19:11
  許多產(chǎn)業(yè)中企業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)方式已從過去價(jià)格、規(guī)模、技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)發(fā)展到標(biāo)準(zhǔn)競(jìng)爭(zhēng)。技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化是企業(yè)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)競(jìng)爭(zhēng)的基本方式。技術(shù)創(chuàng)新、技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化和市場(chǎng)結(jié)構(gòu)之間相互影響。本文采用1985—2012年"中國(guó)電子信息企業(yè)百?gòu)?qiáng)"數(shù)據(jù),探討電子信息產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域三者之間的內(nèi)在關(guān)系,發(fā)現(xiàn)技術(shù)創(chuàng)新和技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化是市場(chǎng)集中度的重要影響因素,中國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)專利數(shù)量對(duì)市場(chǎng)集中度產(chǎn)生一定影響,新技術(shù)的出現(xiàn)在初期對(duì)現(xiàn)有市場(chǎng)結(jié)構(gòu)沖擊較大,但實(shí)力強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)企業(yè)很快適應(yīng)并迅速發(fā)揮其研發(fā)能力,技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化將強(qiáng)化優(yōu)勢(shì)企業(yè)的市場(chǎng)地位,形成"強(qiáng)者愈強(qiáng)"的局面;技術(shù)創(chuàng)新與技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化之間互為因果,豐富的技術(shù)專利成果為企業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化戰(zhàn)略提供更大選擇空間,而技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化的加強(qiáng)會(huì)減少重復(fù)性技術(shù)研發(fā)活動(dòng),且能加速研發(fā)成果擴(kuò)散傳播,有助于在更高水平上實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破。 

【文章來源】:經(jīng)濟(jì)管理. 2015,(06)北大核心CSSCI

【文章頁數(shù)】:11 頁

【部分圖文】:

技術(shù)創(chuàng)新、技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)——基于1985—2012年“中國(guó)電子信息企業(yè)百?gòu)?qiáng)”數(shù)據(jù)


圖2各變量脈沖響應(yīng)曲線圖(廣義脈沖函數(shù))??“”

方差分解,變量,市場(chǎng)集中度


并或作廢),但這種反應(yīng)?做出正向反應(yīng)。??ilALCR4的方差分解?LN_STD的方mm?方差分解??80-?80-?80-??-??40???\^LN ̄_PAT?I?40?-?|士ZJV^r?|?40?_?\^LN_PAT??20-?20-?20-??Oil?_?奉“?a,__""""■"““"““*""“■?:?.?I‘?Q?I—a—??T?2?3?4?5?6?7?8?9?10?T?2?3?4?5?6?7?S?9?10?T23456789?10??圖3各變量方差分解??方差分解通過分析各新息對(duì)內(nèi)生變量的相??對(duì)重要性,比較相對(duì)重要性“新息”隨時(shí)間的變?五、結(jié)論與啟示??化,估計(jì)該變量的影響程度與作用時(shí)滯。如圖3?本文在理論上闡釋技術(shù)創(chuàng)新、技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化和市??所示,LN_CR4的預(yù)測(cè)方差主要受自身影響(約?場(chǎng)結(jié)構(gòu)之間內(nèi)在關(guān)系的基礎(chǔ)上,采用中國(guó)電子信息??82%?),受LN_STD(釣1%?)和LAL/M7X約11%?)?產(chǎn)業(yè)數(shù)據(jù)進(jìn)行實(shí)證分析。得到以下結(jié)論:技術(shù)創(chuàng)新??影響相對(duì)較少;wv_sar的預(yù)測(cè)方差除了受自身?和技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化是市場(chǎng)集中度的重要影響因素,中國(guó)??影響外(約71?%?),主要受i/V?_?影響(約?電子信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)專利數(shù)量對(duì)市場(chǎng)集中度產(chǎn)生一定??28%?),受響僅占1%??’?LN—PAT的預(yù)測(cè)?影響,新技術(shù)的出現(xiàn)在初期對(duì)現(xiàn)有市場(chǎng)結(jié)構(gòu)沖擊較??方差除了受自身影響外(約84%?),主要受LN—?大,但實(shí)力強(qiáng)大的在位企業(yè)很快適應(yīng)并迅速發(fā)揮其研??S77)影響(約15%?),受L/V_C?4影響占比不足?發(fā)能力,反而可能會(huì)強(qiáng)化自身優(yōu)勢(shì),導(dǎo)致市場(chǎng)集中度??1%?梢姡讲罘治龅慕Y(jié)果

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3137859

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