研究中國專利保護強度對高技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展的影響對于客觀看待中國專利保護水平具有重要意義。測度專利保護強度時結合專利立法保護強度與執(zhí)法保護強度;測度執(zhí)法保護強度指標中納入專利代理人數(shù)量、專利侵權行政案件結案率、專利侵權司法判賠率、人均專利申請量等指標,以使評價指標體系更科學和符合實際。采用逐步建立多個回歸模型分析,結果發(fā)現(xiàn)在一元線性回歸模型中專利保護強度的提高能夠有效解釋高技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展水平的提高;在多元線性回歸模型中發(fā)現(xiàn),中國專利保護強度對高技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展的影響減弱,甚至無法產(chǎn)生顯著影響。其原因可能在盡管中國專利立法保護強度已達到較高水平,但專利執(zhí)法尚需進一步完善,特別是司法侵權判賠方面。由此可見,中國專利保護現(xiàn)階段應更注重對法律的執(zhí)行,以更好地發(fā)揮專利制度對產(chǎn)業(yè)的促進作用。 

【文章來源】：科學學研究. 2020年04期 北大核心CSSCI

【文章頁數(shù)】：9 頁

【文章目錄】：
1 文獻綜述
2 專利保護強度指標修正與計算
    2.1 指標選取
    2.2 指標修正
    2.3 專利保護強度計算
3 專利保護強度對高技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展的影響的實證分析
    3.1 變量定義與線性回歸模型設定
    3.2 實證分析
4 結 論



本文編號：2921212