發(fā)布時間：2022-02-10 13:25

　　首先,本文構建了企業(yè)創(chuàng)新偏向的理論模型,其研究的核心在于企業(yè)是否存在創(chuàng)新偏向。其次,本文在理論模型的基礎上通過引入可專利標準構建了拓展模型,研究可專利標準影響企業(yè)創(chuàng)新偏向的機制。結合理論模型得出的研究結果,本文選用2007-2017年A股上市高新技術企業(yè)的面板數(shù)據(jù)進行實證檢驗,進一步探討企業(yè)存在的創(chuàng)新偏向情況并論證專利保護對企業(yè)創(chuàng)新偏向的影響。最后,本文的研究結論為政府完善專利制度和優(yōu)化專利政策提供科學的理論依據(jù),對我國建設創(chuàng)新型國家并推動經(jīng)濟高質量發(fā)展具有重要意義。基礎理論模型中,本文從互補創(chuàng)新視角切入,構建了企業(yè)創(chuàng)新偏向的模型以探討企業(yè)是否存在創(chuàng)新偏向�？疾炝嘶パa創(chuàng)新技術研發(fā)成功概率不對稱的前提下,N家企業(yè)分別參與互補創(chuàng)新技術研發(fā)的社會福利和預期回報。研究得出,在靜態(tài)和動態(tài)模型中,相對于社會最優(yōu)而言,市場均衡中的企業(yè)確實存在創(chuàng)新偏向,會偏向于低風險技術研發(fā),并且這種創(chuàng)新偏向會在動態(tài)模型中進一步加劇。同時這種創(chuàng)新偏向會造成市場中大量研發(fā)資源重復浪費在低風險技術項目研發(fā)上,而對高風險技術項目研發(fā)投入不足的低效率現(xiàn)象。拓展理論模型中,本文引入了專利制度中的可專利標準,進一步構建了可專利標... 

【文章來源】：浙江理工大學浙江省

【文章頁數(shù)】：81 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖１．１?１９９０－２０１７年中國有效專利分布情況??

【參考文獻】：
期刊論文
[1]政府補貼、要素市場扭曲與企業(yè)創(chuàng)新——基于雙邊隨機邊界模型的分析[J]. 成瓊文,李寶生.  商業(yè)研究. 2019(10)
[2]政府補貼與高技術產(chǎn)業(yè)持續(xù)適應性創(chuàng)新演化[J]. 周珊珊,孫玥佳.  科研管理. 2019(10)
[3]中國專利保護“雙軌制”路徑完善的理論分析與實證檢驗[J]. 毛昊,陳大鵬,尹志鋒.  中國軟科學. 2019(09)
[4]新能源企業(yè)創(chuàng)新的市場化激勵——基于風險投資和企業(yè)專利數(shù)據(jù)的研究[J]. 齊紹洲,張倩,王班班.  中國工業(yè)經(jīng)濟. 2017(12)
[5]專利制度是否提高了中國工業(yè)企業(yè)的技術創(chuàng)新積極性——基于專利保護強度和地區(qū)經(jīng)濟發(fā)展水平的“門檻效應”[J]. 李爽.  財貿(mào)研究. 2017(04)
[6]東道國的專利保護強度如何影響跨國企業(yè)的市場進入方式[J]. 尹志鋒,周敏丹.  產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟研究. 2017(03)
[7]知識產(chǎn)權保護執(zhí)法力度、技術創(chuàng)新與企業(yè)績效——來自中國上市公司的證據(jù)[J]. 吳超鵬,唐菂.  經(jīng)濟研究. 2016(11)
[8]知識產(chǎn)權保護影響企業(yè)研發(fā)績效嗎——基于微觀數(shù)據(jù)的實證分析[J]. 仇云杰,吳磊,張文文.  華中科技大學學報(社會科學版). 2016(02)
[9]專利保護、產(chǎn)業(yè)集聚與經(jīng)濟增長[J]. 楊夢泓,潘士遠.  鄭州大學學報(哲學社會科學版). 2015(05)
[10]行業(yè)異質性、知識產(chǎn)權保護與企業(yè)研發(fā)投入[J]. 宗慶慶,黃婭娜,鐘鴻鈞.  產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟研究. 2015(02)



本文編號：3618966