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壁畫線描畫的生成框架及臨摹工具的研究及開(kāi)發(fā)

發(fā)布時(shí)間:2017-05-14 17:07

  本文關(guān)鍵詞:壁畫線描畫的生成框架及臨摹工具的研究及開(kāi)發(fā),由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:線描畫是繪畫中重要的藝術(shù)語(yǔ)言形式,其作為敦煌壁畫中的“起稿”,在敦煌壁畫研究領(lǐng)域中更是占有著舉足輕重的地位。對(duì)敦煌壁畫線描畫的臨摹工作早已開(kāi)始,但臨摹過(guò)程中卻存在著壁畫規(guī)模過(guò)大、內(nèi)容過(guò)多;表現(xiàn)形式多樣;顏色和線條脫落;壁畫遺址禁止臨摹等眾多的難點(diǎn)和問(wèn)題。 隨著當(dāng)前信息技術(shù)的快速發(fā)展,應(yīng)用計(jì)算機(jī)技術(shù)和圖像處理技術(shù)依據(jù)提供的壁畫照片,自動(dòng)生成壁畫線描畫有著重要的意義,此舉既得到了壁畫的線描也保護(hù)了文化遺產(chǎn)不受損害,同時(shí)還為繪畫者、游客們提供了欣賞線描的機(jī)會(huì)。此外,為彌補(bǔ)學(xué)者和繪畫者未能身臨其境臨摹的遺憾,設(shè)計(jì)一款實(shí)用性高又有展覽價(jià)值的臨摹敦煌壁畫線描的臨摹工具,既能幫助學(xué)者觀賞并臨摹線描畫,,同時(shí)也為繪畫者提供高科技的繪畫工具。 本文基于上述內(nèi)容,繼續(xù)研究并提出了優(yōu)化的敦煌壁畫線描畫框架,主要包括:主要內(nèi)容分離、層次化結(jié)構(gòu)分割、整體線條提取、缺失內(nèi)容補(bǔ)充及矢量化優(yōu)化。細(xì)化后的框架更便于從原始圖像中分離背景獲取更滿意的線描畫。同時(shí),增加了對(duì)線描畫全景圖的拼接技術(shù)的研究與實(shí)現(xiàn)。此外,依據(jù)線描畫生成框架提供的思路,設(shè)計(jì)壁畫線描畫臨摹技術(shù)路線,分別從自由臨摹模式和指導(dǎo)臨摹模式設(shè)計(jì)臨摹工具的開(kāi)發(fā)過(guò)程。在實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)的繪畫功能外,在自由模式開(kāi)發(fā)中增加提取線條及矢量化邊界功能,在指導(dǎo)模式開(kāi)發(fā)中添加主要內(nèi)容摳出分割、提取線條、矢量化邊界、用戶選取線條等功能,用戶可在指導(dǎo)步驟下,完成臨摹過(guò)程。 本文中優(yōu)化的線描生成框架已成功實(shí)現(xiàn)較為滿意的線描畫的提取工作,也為未來(lái)其他線描提取的研究提供了依據(jù)和思路,同時(shí)臨摹工具的開(kāi)發(fā)和實(shí)現(xiàn),為繪畫者提供了有效的臨摹繪畫工具,同時(shí)也為游客提供了獨(dú)特的展覽和交互平臺(tái)。
【關(guān)鍵詞】:線描畫 敦煌壁畫 臨摹工具 線描生成框架
【學(xué)位授予單位】:天津大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2014
【分類號(hào)】:J218.6
【目錄】:
  • 摘要4-5
  • ABSTRACT5-8
  • 第一章 緒論8-12
  • 1.1 引言8-9
  • 1.2 線描生成及臨摹現(xiàn)狀9
  • 1.3 本文的主要工作9-10
  • 1.4 本文的組織結(jié)構(gòu)10-12
  • 第二章 相關(guān)工作及技術(shù)12-18
  • 2.1 圖像分割技術(shù)12-13
  • 2.2 圖像摳圖技術(shù)13-14
  • 2.3 圖像拼接技術(shù)14
  • 2.4 輪廓檢測(cè)技術(shù)14-15
  • 2.5 層次化壁畫線描畫生成框架15-16
  • 2.6 繪畫工具研究16-18
  • 第三章 優(yōu)化的壁畫線描畫生成框架18-33
  • 3.1 壁畫線描畫生成框架18-22
  • 3.2 壁畫背景摳圖22-29
  • 3.3 線描圖拼接29-32
  • 3.4 本章小結(jié)32-33
  • 第四章 壁畫線描畫臨摹33-40
  • 4.1 壁畫線描畫臨摹流程33-34
  • 4.2 壁畫平滑處理34-35
  • 4.3 壁畫分割處理35-36
  • 4.4 壁畫線描提取36-38
  • 4.5 壁畫輪廓檢測(cè)38
  • 4.6 壁畫矢量處理38-39
  • 4.7 本章小結(jié)39-40
  • 第五章 壁畫線描畫臨摹工具分析與設(shè)計(jì)40-52
  • 5.1 臨摹工具需求分析40
  • 5.2 臨摹工具功能設(shè)計(jì)40-43
  • 5.3 臨摹工具詳細(xì)設(shè)計(jì)43-44
  • 5.4 臨摹工具實(shí)現(xiàn)及展示44-51
  • 5.5 本章小結(jié)51-52
  • 第六章 總結(jié)與展望52-53
  • 參考文獻(xiàn)53-56
  • 發(fā)表論文和參加科研情況說(shuō)明56-57
  • 致謝57

【參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 穆亞?wèn)|;周秉鋒;;基于顏色和紋理信息的快速前景提取方法[J];計(jì)算機(jī)學(xué)報(bào);2009年11期


  本文關(guān)鍵詞:壁畫線描畫的生成框架及臨摹工具的研究及開(kāi)發(fā),由筆耕文化傳播整理發(fā)布。



本文編號(hào):365734

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