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地下廠房光面爆破參數優(yōu)化與應用研究

發(fā)布時間:2021-07-11 11:30
  為控制地下廠房開挖輪廓以及減小爆破對巖體的損傷,需對光面爆破參數進行優(yōu)化。文章根據理論公式計算得出光面爆破參數,并以炮孔間距、線裝藥密度、抵抗線大小為光面爆破影響因素,半孔率為評價指標,開展L9(34)的正交試驗。通過正交試驗直觀分析和方差分析得出最優(yōu)組合的爆破參數,F場實驗結果表明,采用分析得出的最優(yōu)爆破參數進行爆破試驗,其開挖輪廓平整且沒有超欠挖,達到了預期效果。 

【文章來源】:現代隧道技術. 2020,57(04)北大核心CSCD

【文章頁數】:5 頁

【部分圖文】:

地下廠房光面爆破參數優(yōu)化與應用研究


爆破效果圖

【參考文獻】:
期刊論文
[1]控制爆破技術在水利水電工程中的應用[J]. 鄭儒彬.  中國高新科技. 2018(18)
[2]烏東德水電站明挖工程控制爆破施工技術[J]. 保天才.  施工技術. 2018(S1)



本文編號:3278012

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