粒子圖像測速是一種非接觸式的流場測試技術,被廣泛應用于液體或氣體的流場測定。本文闡述了PIV技術的基本原理,并將PIV技術應用于超聲速氣流低熱固相反應合成系統(tǒng),介紹了實驗裝置和實驗方法,測量了不同工作狀態(tài)下粒子的速度場,結果表明,隨著反應器入口氣流總壓的提高,顆粒撞靶前獲得的速度增大,當總壓大于1.2MPa后,粒子運動速度能達到在500～550m/s,驗證了PIV流場測量技術應用于超聲速氣流低熱固相反應合成系統(tǒng)流場特性研究的可行性。 

【文章來源】：山東化工. 2020,49(18)

【文章頁數】：4 頁

【部分圖文】：

PIV實驗系統(tǒng)示意圖

低熱固相合成系統(tǒng)

為了保證各個光學裝置的安裝精度，設計加工了測量平臺，圖3給出了測量平臺的工作原理圖，圖中帶綠色箭頭的代表測量區(qū)域的粒子成像光路。平臺由小型光學安裝平臺、小型光學升降臺、手動滑軌和一些附屬連接件組成。測量中，為了避免合成系統(tǒng)由于氣流高速運動產生的結構振動影響測量效果，光學安裝平臺放置在地面上，平臺上通過M5螺栓安裝小型光學升降臺，用于PIV相機的安裝和調整，此外，還裝有可無級手動調整定位的滑軌，用于安裝激光片光頭，可方便的調整激光面的角度和位置。測量平臺實物相片如圖4。圖4 測量平臺實物相片

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3267245