快速熱退火增強(qiáng)非晶SiC_xO_y薄膜藍(lán)綠光發(fā)射特性研究
本文選題:碳氧化硅薄膜 + 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 ; 參考:《南京大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué))》2017年03期
【摘要】:采用甚高頻等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù),以SiH_4,CH_4和O_2作為反應(yīng)氣源,在150℃下制備非晶碳氧化硅薄膜,并對(duì)薄膜進(jìn)行不同條件下快速熱退火處理,研究快速熱退火處理對(duì)其結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性的影響.實(shí)驗(yàn)表明,原始沉積薄膜在可見光全波段展現(xiàn)較強(qiáng)的光致發(fā)光特性,經(jīng)過快速熱退火處理后,其發(fā)光強(qiáng)度顯著增強(qiáng).薄膜在700℃經(jīng)過快速熱退火10s后,相比于原始沉積薄膜,其發(fā)光強(qiáng)度增強(qiáng)6倍,肉眼可見強(qiáng)的藍(lán)綠光光發(fā)射.光熒光譜(PL)分析表明,薄膜的發(fā)光峰位不隨激發(fā)波長的改變而發(fā)生明顯變化.通過結(jié)合拉曼(Raman)光譜及傅里葉紅外吸收(FTIR)光譜對(duì)薄膜的微結(jié)構(gòu)及鍵合結(jié)構(gòu)分析,分析了不同退火溫度和退火時(shí)間對(duì)其藍(lán)綠光發(fā)射增強(qiáng)機(jī)制的影響.
[Abstract]:The effect of annealing temperature and annealing time on the emission enhancement mechanism of blue - green light was studied by means of Raman spectroscopy and FTIR spectroscopy .
【作者單位】: 韓山師范學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(61274140,61306003) 廣東省自然科學(xué)基金(2015A030313871) 廣東高校優(yōu)秀青年創(chuàng)新人才培養(yǎng)計(jì)劃(YQ2015112)
【分類號(hào)】:O484
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,本文編號(hào):2017743
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