基質(zhì)輔助激光解吸電離質(zhì)譜（MALDI-MS）是一種高靈敏度、高通量、多組分同時(shí)分析的軟電離質(zhì)譜技術(shù),可通過對物質(zhì)分析實(shí)現(xiàn)分子結(jié)構(gòu)的確認(rèn)及物質(zhì)分布信息的獲取,因此在指紋分析中獲得越來越多的關(guān)注。本文從條件優(yōu)化入手,講述基質(zhì)優(yōu)化過程。接著介紹了MALDI-MS成像（MALDI-MSI）在指紋分析領(lǐng)域具體的應(yīng)用,在形態(tài)分析研究方面,總結(jié)其與常規(guī)顯現(xiàn)方法聯(lián)用對成像效果的影響、對疑難指紋的圖像處理;在化學(xué)信息分析研究方面,分別從根據(jù)質(zhì)譜信息分析生活習(xí)慣/案前活動、指紋遺留時(shí)間和個(gè)體同一認(rèn)定對各研究的優(yōu)點(diǎn)及局限性進(jìn)行評述,最后為MALDI-MSI在指紋領(lǐng)域未來發(fā)展提出展望。 

【文章來源】：應(yīng)用化學(xué). 2020,37(10)北大核心

【文章頁數(shù)】：10 頁

【文章目錄】：
1 基質(zhì)的選擇和放置方式
2 疑難指紋處理
3 與常規(guī)顯現(xiàn)方法聯(lián)用
4 化學(xué)信息提取
    4.1 生活習(xí)慣/案前活動分析
    4.2 指紋遺留時(shí)間
    4.3 個(gè)體同一認(rèn)定
5 結(jié)論與展望


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]利用光譜和質(zhì)譜成像技術(shù)實(shí)現(xiàn)指紋痕量檢測[J]. 徐靜陽,方少波,周婧.  物理學(xué)報(bào). 2019(06)
[2]汗?jié)撌钟★@現(xiàn)方法研究的回顧與展望[J]. 趙雅彬,羅亞平.  刑事技術(shù). 2015(04)
[3]質(zhì)譜成像分析技術(shù)、方法與應(yīng)用進(jìn)展[J]. 羅志剛,賀玖明,劉月英,李鐵鋼,何菁菁,張四純,張新榮,再帕爾·阿不力孜.  中國科學(xué):化學(xué). 2014(05)



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