【摘要】：我國(guó)專利制度自建立以來(lái),經(jīng)過二十多年的發(fā)展已趨于完善,在完善專利立法、加強(qiáng)專利保護(hù)水平上取得了很大的成就；但真正完善的專利保護(hù)制度還應(yīng)當(dāng)包含對(duì)專利權(quán)的正當(dāng)限制。與以美國(guó)為代表的專利保護(hù)發(fā)達(dá)國(guó)家相比,我國(guó)在專利權(quán)限制方面還需要做更多的努力。 專利權(quán)窮竭制度作為對(duì)專利權(quán)進(jìn)行限制的制度之一,由默示許可理論發(fā)展而來(lái),在美國(guó)專利侵權(quán)抗辯中發(fā)揮著很重要的作用。專利權(quán)窮竭制度最早在美國(guó)通過判例確定下來(lái),經(jīng)過一百多年的發(fā)展,其內(nèi)容出現(xiàn)了很多變化；2008年美國(guó)聯(lián)邦最高法院對(duì)Quanta案的判決再次擴(kuò)大了專利權(quán)窮竭制度的適用范圍。美國(guó)專利權(quán)窮竭制度的發(fā)展歷程及其內(nèi)容對(duì)我國(guó)具有很好的借鑒意義：一方面,當(dāng)前專利叢林現(xiàn)象非常嚴(yán)重,嚴(yán)重影響了企業(yè)的發(fā)展；另一方面,自從加入世界貿(mào)易組織以來(lái),貿(mào)易壁壘已經(jīng)由關(guān)稅壁壘轉(zhuǎn)變?yōu)橹R(shí)產(chǎn)權(quán)壁壘,專利成為國(guó)外企業(yè)打壓中國(guó)企業(yè)進(jìn)出口貿(mào)易的一項(xiàng)有力措施。通過學(xué)習(xí)美國(guó)的做法,適當(dāng)?shù)財(cái)U(kuò)大我國(guó)專利權(quán)窮竭制度的適用范圍,可以完善我國(guó)的專利制度,有利于提高我國(guó)企業(yè)應(yīng)對(duì)專利侵權(quán)訴訟的能力,從而保護(hù)我國(guó)企業(yè)的合法權(quán)益。 在本文中,筆者將從介紹專利權(quán)的具體內(nèi)容、專利權(quán)窮竭制度的發(fā)展歷程和本質(zhì)開始,運(yùn)用案例分析法對(duì)美國(guó)專利權(quán)窮竭制度進(jìn)行介紹,得出專利權(quán)窮竭適用范圍擴(kuò)張的條件是已售專利產(chǎn)品部件包含所窮竭專利的實(shí)質(zhì)性技術(shù)特征并且沒有其他非侵權(quán)用途,提出專利權(quán)窮竭與默示許可是美國(guó)專利侵權(quán)訴訟中既有聯(lián)系又有區(qū)別的兩種不同的抗辯事由,歸納出在美國(guó)售后限制條件可以排除專利權(quán)窮竭的適用條件,并結(jié)合我國(guó)立法司法實(shí)踐總結(jié)我國(guó)專利權(quán)窮竭制度的適用條件及存在的問題提出立法建議。
[Abstract]:Since the establishment of the patent system in China, after more than 20 years of development, it has made great achievements in perfecting patent legislation and strengthening the level of patent protection. However, a truly perfect patent protection system should also contain legitimate restrictions on patent rights. Compared with the developed countries represented by the United States, China still needs to make more efforts in patent limitation. As one of the systems that restrict patent rights, the exhaustion of patent rights is developed from the theory of implied license and plays an important role in the defense of patent infringement in the United States. The patent exhaustion system was first established in the United States through the case law. After more than one hundred years of development, its content has changed a lot. In 2008, the United States Supreme Court's judgment on Quanta case once again expanded the scope of application of patent exhaustion system. The development course and contents of the patent exhaustion system in the United States have a good reference significance for our country: on the one hand, the phenomenon of patent jungle is very serious, which seriously affects the development of enterprises; on the other hand, since China's entry into the World Trade Organization, Trade barriers have changed from tariff barriers to intellectual property barriers, and patent has become a powerful measure to suppress the import and export trade of Chinese enterprises. By studying the practice of the United States and properly expanding the scope of application of the patent exhaustion system in China, the patent system of our country can be perfected, and the ability of Chinese enterprises to deal with patent infringement litigation can be improved, thus protecting the legitimate rights and interests of Chinese enterprises. In this paper, the author will introduce the specific content of patent right, the development course and essence of patent exhaustion system, and use case analysis to introduce the patent exhaustion system in the United States. It is concluded that the condition of expanding the scope of application of patent exhaustion is that the components of the sold patent product contain the substantive technical characteristics of the exhausted patent and have no other non-infringing uses. It is put forward that exhaustion of patent right and implied license are two kinds of different defenses in patent infringement litigation in the United States, and the applicable conditions of exhaustion of patent right can be eliminated under the condition of restriction after sale in the United States. Combined with our country's legislative and judicial practice, this paper summarizes the applicable conditions and existing problems of patent exhaustion system in our country.
【學(xué)位授予單位】：北京化工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2011
【分類號(hào)】：D923.42;D971.2

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3 田浩;“天下第一刀”專利權(quán)復(fù)歸專利權(quán)人[N];中國(guó)教育報(bào);2005年

4 記者 喬地;我專利權(quán)人狀告日本索尼、佳能公司[N];科技日?qǐng)?bào);2010年

5 本報(bào)記者 胡Z

本文編號(hào)：2165331